这篇笔记整理一下硅光芯片中的电光调制器。最近在做相关的设计,理解还不是很深刻。
调制器的作用是基于一定的物理效应,将信号加载到光信号上。硅是中心材料,不存在Pockell效应(线性电光效应),其Kerr效应比较弱(二次电光效应)。硅基电光调制器所应用的物理效应为等离子体色散效应(plasma dispersion effect),其物理机制是硅的折射率(实部和虚部)都随着载流子浓度的变化而变化,1550nm波长时的关系式如下,
(来自文献1)
从上式可以看出,随着载流子浓度的增加,硅的折射率实部减小、虚部增加,对应于光场的相位减小、损耗增大。
通过设计不同的电学结构,可以达到改变载流子浓度的目的,进而实现相位的改变,实现对光场的调制。典型的电学结构分为三种, 如下图所示,
(图片来自文献2)
1)载流子注入型(carrier injection modulator)
在脊形波导两侧进行掺杂,形成PIN结。施加正向电压后,p区的空穴与n区的电子在电场作用下,注入进中间的i区,波导中心i区(光场模式的中心区域)的载流子浓度增加,进而波导的折射率实部减小,虚部增大。由于注入的少数载流子具有一定的扩散长度,折射率发生变化的区域与模场具有较大的交叠,因而该类型调制器的调制效率较高,V_pi*L_pi约为0.03V.cm,调制器的长度只需要几百微米。但是受限于电子-空穴对的复合时间,其调制速率不是很高,只能达到几个GHz。该类型调制器的插损较小。
2) 载流子耗尽型 (carrier depletion modulator)
该类型的波导结构与注入型类似,在脊形波导不同区域进行掺杂,形成PN结。不同的是,此时PN结工作在反偏模式。当施加反偏电压后,PN结内的耗尽区(depletion region)增大,内建电场增强。耗尽区内没有自由载流子,波导的折射率实部增大,虚部减小。由于载流子浓度发生变化的区域比较小,集中在pn结附近的耗尽区,因而该类型调制器的调制效率不高,V_pi*L_pi为2-3V.cm, 典型的调制器长度为2-4mm。但是它的调制速率非常高,可以达到几十个GHz,满足高速高模块的需求。目前基于硅光的光模块产品,都是采用该类型的调制器。另外,由于波导中心区域也进行了掺杂,因而该类型的调制器插损较大,约为4-5dB。
以上两种调制器,只需对脊形波导不同区域进行不同程度的掺杂,foundry一般都会提供相应的PDK。由于掺杂浓度不能随意改变,在做器件设计时,能够调整的参数只有掺杂区域的宽度。
3) 载流子积累型(carrier accumulation modulator)
该类型又称为MOS型调制器,在p型区域和n型区域中间生长一层教薄的SiO2, 形成MOS电容(MOS电容的金属对应多晶硅,O为SiO2)。施加电压后,多数载流子聚集在MOS电容的两侧,载流子浓度增加,进而带来折射率的增加。该类型调制器的调制效率较高,V_pi*L_pi约为0.2V.cm,其调制速率也比较高。但是它对加工工艺的要求比较高,需要生长多晶硅以及SiO2薄层,而多晶硅会引入额外的损耗。
简单从几个方面比较下下这三种电学结构构成的调制器,如下图所示,
(圆圈越少,表示相应的参数越小/越低)
这几种电学结构都是典型的半导体器件结构, 两者间可以相互借鉴。
常用的调制器光学结构为Mach-Zehnder干涉器型和微环型。
1) Mach-Zehnder型
典型的结构如下图所示,
整个调制器由分束器、合束器以及两个相移器(可以只在某一臂中存在相移器构成。分束器与合束器也就是50/50分光器(可参看 光芯片中的分束器 )。相移器可以为上述的三种电学结构)。通过调节两臂的电压,改变两路的相位差,从而调节最终的输出光强。上下两臂的长度可以相等,也可以不等。不等臂的目的是为了观测到不同波长的相应。如果等臂长,整个调制器可以工作在较宽的波段。两种情况的透过率曲线如下图所示,不等臂MZI的透过率曲线随着电压的变化会发生平移,而等臂MZI的透过率曲线包络不随电压变化,电压影响的是系统的插损,此时调制器可以工作在较宽的波长范围内。
(图片来自文献3)
2)Micro-ring型
微环型调制器的典型结构如下图所示,
(图片来自文献1)
当施加电压时,环形波导的折射率发生改变,导致其共振波长发生平移,共振峰附近某一特定波长的强度会发生较大的改变,从而达到强度调制的目的,如上右图所示。
微环调制器的尺寸小,功耗低,调制效率高。但是它的工艺容差小,并且对温度敏感,并不适用于实际产品。
以上是对硅基电光调制器基础的简单总结。硅基电光调制器的基本原理比较简单,改变载流子浓度,导致折射率变化,进而影响光场的强度。调制器是一个相对复杂的器件,实际设计时,有很多细节问题需要考虑。对于高速调制器,还需要对RF电极进行特殊的设计(参看Mach Zehnder电光调制器:集总电极与行波电极)。每一个细节考虑不周全,都可能导致最终的器件性能达不到产品要求。
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参考文献: