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基于台积电3nm工艺,Alphawave网络芯片流片成功

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芯智讯
发布2022-11-22 11:37:50
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发布2022-11-22 11:37:50
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文章被收录于专栏:芯智讯

10月27日消息,网络芯片设计公司Alphawave日前宣佈,旗下 ZeusCORE100 1-112Gbps NRZ / PAM4 成功流片。该芯片将支持 800G 以太网、OIF 112G-CEI、PCIe 6.0 和 CXL3.0 在内的众多标准,同时这也是台积电3nm家族 N3E 制程的首个测试芯片。

Alphawave也预计成为台积电 N3E 制程的首批客户。目前该芯片已通过所有必要的测试,预计将会在台积电的 OIP 论坛上展示。

Alphawave CEO Tony Pialis 表示,很自豪成为首批使用台积电最先进 N3E 制程技术的公司之一,双方的合作伙伴关係将继续带来创新的高速连接技术,为最先进的资料中心提供动力。

根据台积电先前的官方说法,比较 N3 和 N5 制程技术,N3 在相同功号和複杂度的情况下,预计会带来 10% 到 15% 的性能提升,或者在相同频率和电晶体数量中降低 25%-30% 的功耗,同时会将逻辑密度提高约 1.6 倍。

至于,更新的 N3E 是台积电第二代3nm节点制程技术,相较 N5 节点制程,性能提升幅度大概为 18%,或者降低 34% 的功耗,逻辑密度提高约 1.7 倍。而相较首代 N3 制程技术,台积电预计 N3E 将会更广泛地被採用,量产时间为 2023 年中旬或第三季。

事实上,台积电从 2022 年到 2025 年,将陆续推出 N3、N3E、N3P、N3X 等3nm节点制程,后续还预计有优化后的 N3S 制程等,可涵盖智能手机、物联网、车用芯片、高性能计算等不同平台的使用需求。

台积电在 N3 节点制程上仍使用 FinFET 鳍式场效应电晶体架构技术,不过可以使用 FINFLEX 技术,扩展制程技术的性能、功率和密度范围,允许晶片设计人员使用相同的设计工具,为同一芯片上的每个关键功能块选择最佳选项,进一步提升 PPA (功率、性能、面积)。

编辑:芯智讯-林子 来源:technews

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原始发表:2022-10-27,如有侵权请联系 cloudcommunity@tencent.com 删除

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