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Smart Photonics:400G/lane高速高密度InP PIC技术支撑1.6T/3.2T/CPO生态

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光芯
发布2025-11-29 17:36:55
发布2025-11-29 17:36:55
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文章被收录于专栏:光芯前沿光芯前沿

在ECOC 2025大会上,SMART Photonics高级产品经理Michiel Boermans分享了题为“Enabling InP PICs for the CPO & AI Era: Lithography Enabled High-Volume Integration of Lasers and High-Bandwidth Modulators”的核心技术成果,系统阐述了磷化铟(InP)光子集成电路(PIC)在相干检测(CPO)与AI数据中心场景下的技术突破、核心优势及规模化应用前景。

一、SMART Photonics:专注InP的全链条光子代工厂

SMART Photonics是一家独立的InP代工厂,构建了“设计-制造-集成-终端应用”的全闭环服务体系。在设计端,其专有PDK(光子设计工具包)支持客户自主研发,同时搭建了与设计公司的合作桥梁;制造环节覆盖外延生长、光刻、隔离与钝化、平坦化与金属化、研磨与抛光等核心工艺;集成层面实现了与Si、SiN平台的异质集成,并提供封装测试一站式服务;终端应用则聚焦数据中心与AI、相干通信、50G PON及传感四大核心领域。

该PDK具备极强的市场化优势:包含50余种专有构建模块,经过10余年持续优化迭代,已形成20余个授权及在审专利家族,覆盖放大器、激光器、调制器、光子二极管、波导、光栅等全系列无源与有源器件,能帮助客户快速缩短产品上市周期。

二、核心选择:InP材料的五大不可替代优势

InP之所以成为CPO与AI时代的核心材料,源于其独特的性能组合,全面超越硅光子等其他材料体系:

1. 极致高速性能:光电二极管、调制器、驱动芯片的最大带宽分别可达200GHz、300GHz、300GHz,光电综合带宽达100GHz,远超硅光子(SiPho)、锗(Germanium)、砷化镓(GaAs)等材料;

2. 高温稳定运行:InP激光材料可在85°C环境下稳定工作,支持高设定点运行,显著降低收发器模块功耗;

3. 低功耗与高可靠性:集成激光器的设计方案光学损耗最低,电力消耗可节省30%,且电信与数据通信收发器符合Telcordia等行业标准,是互联网数据传输的核心驱动;

4. 低综合应用成本:相比混合解决方案,InP PIC的组装与测试成本更低,高容量PIC方案支持基于晶圆的KGD(已知良好芯片)自动化测试与分die,进一步降低量产成本;

5. 光电集成优势:可在单芯片上实现激光器、放大器等有源器件与无源器件的集成,无需复杂异构封装,同时电气晶体管射频速度与连接性能为未来升级预留空间,无需增加系统复杂度。

三、CPO热潮下的AI数据中心架构革新

AI数据中心网络(DCN)架构正推动传输速率向800G/1.6T/3.2T演进,SMART Photonics的InP PIC方案完美适配这一趋势。该架构包含 spine/聚合层、leaf/集群层、TOR(机架顶部)交换机等层级,终端采用64通道CW-WDM ELSFP模块(每端口8个波长)与8端口800G/1.6T/3.2T FR4模块,通过InP PIC的高集成特性实现海量数据的高速传输,为CPO技术的规模化应用提供核心支撑。

四、高速调制器:从100G到400G/lane的技术跃迁

调制器作为InP PIC的核心器件,其性能迭代直接推动传输速率升级。SMART Photonics的调制器技术呈现清晰的演进路径:2020年实现38GHz射频速度、67GBd波特率,支持100Gb/s lane PAM4传输;2024年升级至65GHz射频速度、112.5GBd波特率, lane速率提升至200Gb/s PAM4;2026年将突破125GHz射频速度、225GBd波特率,实现400Gb/s lane PAM4传输,超高的125GHz带宽也为1.6T相干通信奠定基础。

更关键的是,InP调制器已具备支撑3.2T DR/FR传输的潜力:当前设计带宽已突破110GHz,线性外推分析显示其带宽可达到200GHz,远超硅光子调制器的性能上限。该类调制器长度不足1mm,支持单片或异质集成,与120GHz以上的InP驱动芯片兼容性优异,在阻抗匹配上具备天然优势,同时依托成熟的高容量制造工艺,实现晶圆级的成本控制与性能一致性。

近期在VLC(Hitachi集团旗下光子设计测试公司)的110GHz是德科技测试平台上,该调制器已实现100GHz+带宽的实测验证,进一步印证了其技术可靠性。

五、集成创新:1.6T/3.2T FR4 PIC的极致设计

SMART Photonics提出的AI数据中心FR4/8 PIC集成概念,展现了InP技术的小型化与高集成优势。以光子发射端(Tx)功能设计为例,单颗InP PIC集成了8个激光器、8个PAM调制器及2个4:1多路复用器,涵盖多波长通道,实际尺寸仅约10mm²。这种高度集成带来三大核心价值:一是芯片内连接减少光学损耗,降低系统功耗;二是极小尺寸适配高密度封装需求;三是晶圆级制造实现规模化经济效益。

对比传统方案,InP集成光子方案优势显著:与TFLN PIC相比,尺寸缩小7倍;与硅光子+TFLN调制器+DFB激光器的混合方案相比,成本降低50%,功耗减少80%,光纤连接点减少10倍,全方位满足3.2T FR4 DCN模块的严苛要求。

六、未来展望:从单一集成到全功能融合

InP PIC的集成之路正从当前的发射端(Tx)集成、芯片级集成,向未来的发射端与接收端(Tx&Rx)全集成、光子与InP驱动芯片集成演进。这一趋势将持续推动系统复杂度降低、尺寸缩小与成本优化,为CPO、AI数据中心、相干通信等领域提供更具竞争力的解决方案。

◆ 总结:InP集成光子学的核心价值与产业意义

SMART Photonics的InP PIC技术以“高集成、高速度、低功耗、低成本”为核心标签,通过对接耦合与深紫外(DUV)光刻技术,实现了有源与无源器件的高质量、高容量、可扩展集成。其PDK驱动的代工厂模式,为无晶圆厂设计公司提供了便捷的技术落地路径,而高速调制器等核心器件的持续迭代,正支撑着从1.6T到3.2T的传输速率升级。在CPO与AI技术爆发的时代背景下,InP集成光子学不仅解决了高带宽、低功耗的核心诉求,更通过全方位的性能与成本优势,成为重塑数据中心与通信网络生态的关键技术支撑。

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原始发表:2025-11-24,如有侵权请联系 cloudcommunity@tencent.com 删除

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