NVIDIA、ASML、TSMC与Synopsys为新一代芯片制造奠定基础

在行业接近物理极限之际，半导体行业领导者开始采用 NVIDIA 在计算光刻技术领域的突破成果

加利福尼亚州圣克拉拉 – GTC – 太平洋时间 2023 年 3 月 21 日 – NVIDIA 宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。在当前生产工艺接近物理极限的情况下，这项突破使 ASML、TSMC 和 Synopsys 等半导体行业领导者能够加快新一代芯片的设计和制造。

全球领先的代工厂 TSMC，以及电子设计自动化领域的领导者 Synopsys 正在将全新的 NVIDIA cuLitho 计算光刻技术软件库整合到最新一代 NVIDIA Hopper 架构 GPU 的软件、制造工艺和系统中。设备制造商  ASML 正在 GPU 和 cuLitho 方面与 NVIDIA 展开合作，并正在计划在其所有计算光刻软件产品中加入对 GPU 的支持。

这一进展将使得未来的芯片能够拥有比目前更小的晶体管和导线，同时加快产品上市时间，大幅提高为驱动制造流程而全天候运行的大型数据中心的能效。

NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示：“芯片行业是全球几乎所有其他行业的基础。光刻技术已临近物理极限，NVIDIA cuLitho 的推出以及我们与 TSMC、ASML 和 Synopsys 的合作，使晶圆厂能够提高产量、减少碳足迹并为 2 纳米及更高工艺奠定基础。”

cuLitho 在 GPU 上运行，其性能比当前光刻技术工艺（通常指在硅晶圆上绘制电路）提高了 40 倍，能够为目前每年消耗数百亿 CPU 小时的大规模计算工作负载提供加速。

凭借这项技术，500 个 NVIDIA DGX H100 系统即可完成原本需要 4 万个 CPU 系统才能完成的工作，它们能够同时运行计算光刻工艺的所有流程，助力降低耗电以及对环境的影响。

在短期内，使用 cuLitho 的晶圆厂每天的光掩模（芯片设计模板）产量可增加 3-5 倍，而耗电量可以比当前配置降低 9 倍。原本需要两周时间才能完成的光掩模现在可以在一夜之间完成。

从长远来看，cuLitho 将带来更好的设计规则、更高的密度和产量以及 AI 驱动的光刻技术。

行业领导者的支持

NVIDIA 正在与行业领导者们共同推动这项新技术的迅速普及。

TSMC 首席执行官魏哲家表示：“cuLitho 团队通过将昂贵的操作转移到 GPU，在加速计算光刻方面取得了令人钦佩的进展。这项成果为 TSMC 在芯片制造中更大范围地部署反演光刻技术、深度学习等光刻解决方案提供了新的可能性，为半导体行业规模的持续扩大做出了重要贡献。”

ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：“我们计划在所有计算光刻软件产品中加入对 GPU 的支持。我们与 NVIDIA 在 GPU 和 cuLitho 上的合作预计会给计算光刻技术，乃至整个半导体行业的发展带来巨大的益处。这一点在 High-NA EUV 光刻时代将变得尤为明显。”

Synopsys 董事长兼首席执行官 Aart de Geus 表示：“计算光刻技术，尤其是光学邻近修正（OPC）正在推动先进芯片计算工作负载的边界。通过与 NVIDIA 合作，Synopsys OPC 软件将在 cuLitho 平台上运行，可将原本需要数周才能完成的工作大幅缩短到数天。这将继续推动该行业取得惊人的进步。”

推动半导体行业的发展