攻克光子芯片制程中多项核心工艺 陕西先进光子器件工程创新平台全面启用

先进光子器件工程创新平台中试大楼

国际在线报道（记者 朱宛玲）3月30日，陕西光电子先导院先进光子器件创新平台在西安全面启用。该平台具备光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺，将为光子产业项目提供产品研发、中试、检测等全流程技术服务，为光子产业各类创新主体打通从产品研发到市场化批量供货的完整链条。

先进光子器件工程创新平台核心设备干法刻蚀机

先进光子器件工程创新平台生产设备间

先进光子器件工程创新平台占地30亩，建有中试车间、中试大楼、综合楼和动力站等研发和中试配套设施，总建筑面积约30000平方米，洁净厂房3000平方米，一期专业设备100余台（套），具备以GaAs（砷化镓）、GaN（氮化镓）为主线，围绕6英寸化合物芯片工艺服务能力的柔性中试平台，以技术服务与工程代工相结合的形式，为光子产业孵化项目提供产品研发、中试、检测等全流程技术服务。

先进光子器件工程创新平台将有效解决第三代化合物半导体芯片制造的外延生长与制程等关键问题，为光电芯片、功率器件、射频器件等芯片设计企业、高校、科研院所提供外延生长、光刻、刻蚀、薄膜制备、清洗、减薄、抛光、划片等芯片制造全流程服务。

通过与创新企业持续进行联合研发，光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺技术不断攻克，平台软硬件建设已不断完善，将持续助力光子产业链上下游企业聚集。

该平台的启用，标志着陕西向打造具有全球影响力的光子产业生态高地的战略目标又迈出了坚实的一步，将吸引更多光子产业创新要素汇聚陕西，培育一批具有先发优势和全球竞争力的光子产业冠军企业，推动光子产业向集群化、规模化、高产值化发展。