国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要

【国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要】财联社4月24日电，国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会上表示，将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中，修改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要，助力芯片产业做大做强，服务数字经济更好发展。加强大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究，助力相关领域创新发展。同时，积极参与知识产权国际规则制定，更好对接高标准国际经贸规则，助力高水平对外开放。