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三星电子发布SF4X工艺论文,引领高性能计算行业的创新潮流

【ITBEAR科技资讯】5月12日消息,三星电子宣布将在今年的VLSI研讨会上推出一项引人注目的技术突破。据ITBEAR科技资讯了解,该韩国科技巨头将发布一篇关于SF4X的论文,这是一项面向高性能计算(HPC)客户的全新4纳米代工工艺。预计在今年上半年,这一工艺将开始量产,为行业带来更高的能效和性能。

去年开始,三星电子着手将4纳米工艺细分为5种,逐步扩大其应用领域,涵盖HPC和汽车半导体等多个半导体应用。据业内人士透露,近期三星电子采取了多项措施,稳步提升4纳米工艺的良率,取得了显著进展。

SF4X工艺的批量生产将成为三星电子吸引英伟达等客户的重要举措。值得一提的是,自2022年6月起,三星已开始量产全球首款用于HPC的3纳米芯片,并计划在2024年推出第二代3纳米工艺。这一系列工艺升级标志着三星电子在先进制程领域的持续创新。

SF4X工艺的引入将为HPC行业带来显著的能效提升和性能增强。根据三星电子在论文中的表示,SF4X工艺将能使能效优化达到23%,性能提升10%。这将为高性能计算领域带来更高的计算速度和功耗效率,满足不断增长的计算需求。

三星电子计划通过加快SF4X工艺的推广和批量生产,进一步巩固其在半导体制造业的领先地位,并吸引更多全球客户的关注和合作。未来,我们可以期待三星电子在半导体领域继续取得突破,并为全球科技发展做出更多贡献。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20230512A02N7Y00?refer=cp_1026
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