ASML害怕中国3年造出顶级光刻机，北大院长林毅夫给出肯定答案​

近日，荷兰ASML公司宣布，将暂停向中国出售最先进的光刻机，引起了业内广泛关注。有分析认为，ASML之所以这样做，是因为它担心中国在未来3年内能够造出同等水平的光刻机。不过，北大国家发展研究院院长林毅夫在接受采访时表示，中国已经具备了造出顶级光刻机的能力。

据了解，ASML是全球最大的光刻机制造商，其生产的光刻机被广泛应用于半导体芯片制造领域。而中国在半导体芯片制造领域一直处于落后地位，这也是中国政府一直努力推进的领域之一。

然而，近年来，中国在半导体芯片制造领域取得了长足进步。据中国半导体行业协会数据显示，2019年中国半导体产业规模达到了7.5万亿元，同比增长15.8%。而在光刻机领域，中国企业也在不断努力。比如，中国企业中微半导体已经推出了自主研发的光刻机，而中芯国际也在不断加大对光刻机的研发投入。

对于ASML的担忧，林毅夫表示，中国已经具备了造出顶级光刻机的能力。他认为，中国在半导体芯片制造领域的进步是不可逆转的，而且中国政府也在大力支持半导体产业的发展。因此，ASML担心中国能够造出同等水平的光刻机是有道理的。

不过，林毅夫也表示，中国在半导体芯片制造领域的进步并不是一蹴而就的，还需要不断努力。他认为，中国企业需要加强自主研发能力，提高技术水平，才能在光刻机领域取得更大的进展。

总的来说，ASML暂停向中国出售最先进的光刻机，反映了中国在半导体芯片制造领域的进步已经引起了国际巨头的担忧。不过，中国在这个领域的进步也是不可逆转的，中国企业需要加强自主研发能力，提高技术水平，才能在光刻机领域取得更大的进展。