光刻机事件尘埃落定了，为什么华为、中芯国际等表现平静？

华为等中国高科技公司在核心技术领域的彻底崛起，让美国资本财团和美国科技公司感受到了前所未有的挑战与压力，于是他们使出浑身解数，发起了对中企的全面打压。

芯片限制便是美国为了限制而搞出的“代表作”，尤其是2023年以来，芯片“规则”再度升级，对其制造设备实施限制，臭名昭著的美日荷“三方协议”出炉，试图在非最先进的芯片技术方面限制。

比如，据媒体分析称日本半导体设备的出口管制将覆盖到45nm制程，而荷兰ASML公司将会被限制。

具体涉及到TWINSCAN NXT:2000i、2050i 、2100i 等主流的DUV浸入式光刻设备。或在7月对外公布限制措施。而此前最先进的EUV光刻机制造设备已经受到出售限制。

根据荷兰方面的消息，我们可以得知光刻机出货事件基本上尘埃落定了。

由于芯片“规则”的升级，荷兰ASML公司将会无奈“配合”限制主流DUV光刻机设备的出售。

不过，根据消息描述，并不是所有的光刻机都会被限制，1980Di型号以及1470型号的老款光刻机是可以继续出售的。

而随着光刻机等芯片设备事件的尘埃落定，为什么华为、中芯国际等厂商表现得却很平静？

从目前的已知消息来看，为了减轻对进口设备和技术的依赖，华为、中芯国际、上海微电子等国产厂商应该是已经有了应对措施，在加强自主研发的情况下，国产化元器件供应链取得重要突破。

比如13000多块元器件的替换；14nm芯片设计工具的国产化，今年将全面完成验证；中科院所属科研机构长春光机所在EUV光源系统方面取得突破。

另外，消息称上海微电子制造的光刻机制造设备，有一台可用于28nm精度的光刻机正在测试阶段，如果该消息存在，美日荷对光刻机设备的限制措施就没意义了。

其次是着眼于未来的长期发展策略，中国科技企业已经将目光放在了长期的稳定发展上，而不是短期的芯片受到限制的事件影响上。因此光刻机等芯片制造设备的限制事件发生后不会过度反应。

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