荷兰宣布新消息，外媒：ASML，再见

ASML面临更严格出货限制

ASML因芯片规则修改遭到限制出货，荷兰决定限制部分型号的DUV光刻机出货。ASML面临更严格的出货限制，只能出货单次曝光精度38nm以上的光刻机。

　　1、ASML被限制出货的光刻机型号

　　　　荷兰限制主要包含2000i及后续型号的DUV光刻机。

　　2、国内市场对ASML的依赖度

随着进一步限制出货和美国规则的修改，国内厂商逐渐减少对ASML光刻机的使用，目前市场份额下滑至8%。

国产光刻机的突破

国产先进光刻机正在取得技术突破，包括28nm精度的光刻机和EUV光源技术。国产先进光刻机已经在28nm精度方面取得技术验证，中科院也突破了EUV光源技术。

　　1、国产光刻机的技术突破

国产光刻机已经取得了28nm精度的技术突破，并且中科院也突破了EUV光源技术。

　　2、ASML对国内市场的影响

国内市场已经开始减少对ASML的依赖，更倾向于选择国产先进光刻机。

华为及其他国内厂商的突破

华为及国内厂商在解决光刻机问题上取得突破，研发堆叠技术、量子芯片、光电芯片等。华为等国内厂商已取得在解决光刻机问题上的突破，并且正在研发堆叠技术、量子芯片、光电芯片等。

　　1、华为及国内厂商的突破

华为联合国内厂商在解决光刻机问题上取得突破，并且正在研发堆叠技术、量子芯片、光电芯片等。

　　2、ASML在国内市场的前景

ASML面临被国内厂商替代的局面，国内厂商在光刻机方面的突破将加速ASML在国内市场的失去份额。

国际巨头ASML面临荷兰进一步限制出货光刻机的消息，外媒纷纷表示，ASML面临的困境可能进一步加剧，这家芯片装备巨头或将在中国市场的竞争中失去竞争力。

据了解，荷兰将限制部分型号的DUV光刻机出货，只能出货单次曝光精度38nm以上的光刻机。这对ASML来说无疑是一个重大冲击，尤其是考虑到荷兰是ASML总部所在地。

此前，ASML已经面临来自美国的限制出货，而现在又遭遇荷兰的限制，可以说ASML面临的出货困境进一步加深。

根据数据显示，国内厂商对ASML光刻机的依赖度已经下滑到8%。这主要是由于进一步限制出货以及美国对华为等中国科技公司的封锁导致的。

与此同时，国产先进光刻机正在取得突破。国内已经成功研发出28nm精度的光刻机，并且中科院也突破了EUV光源技术，具备了自主研发光刻机的能力。

这些国产先进光刻机的突破，加上国内厂商在解决光刻机问题上的取得突破，尤其是华为等厂商正在研发堆叠技术、量子芯片、光电芯片等，将进一步加速ASML在国内市场的失去份额。

可以说，ASML面临着被国内厂商替代的局面。国内厂商在光刻机方面的突破是不可忽视的，这将成为ASML在国内市场上失去竞争力的重要原因之一。

可以预见的是，ASML在国内市场的前景并不乐观。随着国产先进光刻机的发展和国内厂商在光刻机问题上的突破，ASML的市场份额将进一步减少，甚至可能面临被国内厂商取代的命运。