"光刻机"第一龙头完成蜕变,手握百项专利+中报暴增30倍,目标8连板

"光刻机"第一龙头完成蜕变,手握百项专利+中报暴增30倍,有望8连板

芯片制造是一项复杂且昂贵的工程，其中光刻机是最为关键的设备。在芯片制造过程中，需要进行多种工艺，例如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这些工艺需要使用各种不同的设备，例如氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在所有这些工艺中，光刻工艺是最为复杂的一种，其费用约占芯片制造成本的1/3左右，而耗费的时间占比则约为40-50%。因此，光刻机成为了整个半导体制造过程中最为昂贵的设备。

目前全球光刻机市场基本都由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断，而国内的上海微电子产的光刻机，市场占有率基本可以忽略，特别是在芯片制造光刻机这一块，更多用于封测、光刻胶生产等领域。

根据近期消息，同兴达成功引进了一台光刻机，这台机器是由国内企业上海微电子提供的两台光刻机中的一台。此外，大族激光也在光刻机研发上取得了显著进展，已经实现了小规模量产并可投入市场。这些好消息显示出我国在自主研发光刻机方面的坚持和逐渐摆脱对国外的依赖。与ASML或其他公司进口的光刻机相比，我国的光刻机显然更具性价比，更具有市场竞争力。所以说，国产100%自主光刻机只能用四个字来形容，未来可期！

第一家：容大感光

公司为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。

第二家：捷捷微电

公司正在将业务拓展至光刻机产线整体解决方案,开展的光刻机产业化项目总投资额约8.59亿元。

第三家：具有大牛翻倍潜质

"光刻机"第一龙头完成蜕变,手握百项专利+中报暴增30倍,有望8连板

公司的光刻胶产品主要目标应用于TFT-LCD行业,产品性能满足行业应用需求，也是国内主要的光纤光缆涂覆材料供应商之一，手握有百项专利，基本面优良，中报大幅预增30倍，具有“光刻机+存储芯片+新材料”等多个热点叠加，技术形态高位调整下来，近期成交量出现倍量突破平台，下方筹码牢固，看好走出一波趋势。

第四家：芯源微

公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品,主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

第五家：高盟新材

公司主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。

第六家：强力新材

电子化学品方面:永太新材料年产1500吨CF光刻胶项目已进入了项目验收阶段。公司年产60吨OLED电子材料建设项目正在稳步推进中,继续加大在平板显示领域的布局。