圖:7月6日,參觀者在上海舉行的世界人工智能大會上交流。\新華社
3nm封測領先
•中國目前已在芯片設計方面取得了全球領先水平,華為海思等廠商已經能夠設計出3nm(3納米)工藝的芯片。在芯片生產的最後一個環節,即芯片封測方面,中國利揚公司取得了3nm封測技術的領先地位,為實現全面突破奠定基礎。
疊加技術7nm芯片
•雖然芯片製造仍面臨一定困難,但中國利用現有的14nm工藝結合芯片疊加技術,已能獲得接近7nm工藝的芯片。
量產5nm刻蝕機
•尤其值得一提的是,中國已經量產了5nm刻蝕機,在刻蝕機技術方面達到了全球領先水平。
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