国产光刻机第一龙头，或将成为中国版阿斯麦？下个“剑桥科技”？

什么是光刻机？

光刻机是晶圆制造工艺的最核心设备，通俗来讲就是制造芯片的核心装备，其被誉为半导体制造业皇冠上的明珠。只要掌握了光刻机的相关制造技术，那么国产芯片的发展就有了长足进步。

我们都知道，光刻机是“半导体”卡脖子最严重的地方，也是半导体国产化最迫切的方向。近期，我国在“光刻机”方向不断取得突破，让全球光刻机巨头“阿斯麦”都坐不住了。

近年来，海外对我国的科技管制越来越严格，同时我国对科技自主的需求也越来越迫切，尤其是在半导体领域

近期，又有好消息来了！华为近期公布其已经完成13000多个器件的国产替代，未来将有更多国内企业在芯片端进行国产化。

相信在不久的将来，国产“光刻机”的突破也指日可待！

目前光刻机三大核心方向，已经取得突破性进

一台光刻机，主要由激光光源、物镜系统以及工作台，三大核心部分组成。

光刻机有28nm、22nm、14nm、7nm、5nm等不同规格之分，光刻机想要实现更精确的光刻，就必须要提高分辨率，方法只有两种：一种是减少光源波长，另一种是提高数值孔径。

目前，最顶尖的光刻机，光源波长是13.5nm。目前，我国光刻机ArF光源波长已经突破到193nm，已应用在上海微电子制造的28nm光刻机上。

光学镜头是整个光刻机最昂贵最复杂的部件，涉及光学、机械、计算机、电子学等多个前沿领域。虽然仅20余枚镜片，但设计难度极大。

目前，我国自主研发的光学镜头虽然与卡尔蔡司、尼康等公司的产品还有非常大的差距，但已经可以做到90nm。

工作台分为两部分，一个是测量台，一个是曝光台，因此也叫双工作台。两个工作台通过交换位置和智能，提高生产效率。

双工作台的技术难度极高，在高速运动下还要保持2nm的精度，目前全球仅阿斯麦掌握核心技术。当然，国内在双工作台方面也取得突破，精度为10nm，但与阿斯麦相比，差距还比较大。

除了以上三大核心部分取得突破外，在沉浸系统方面，也取得了一定的突破。目前，国产光刻机沉浸系统还处于DUV阶段，即KrF、ArF、ArFi。前两种已经取得突破，国产最高可做到90nm，可实现国产化替代。

从光刻机板块中精选了5家，或将成为中国版“阿斯麦”？下个“剑桥科技”？

1、容大感光

在我国的PCB感光油墨属于龙头公司之一，其掌握了光刻胶、PCB油墨等电子化学品生产中的关键技术。

2、上海新阳

专注于半导体领域所用的电子化学品，子公司上海芯刻微进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目，替企业自研集成电路制造用高端光刻胶协同发展，

3、苏大维格

我国领先的柔性光电子以及微纳光学技术材料商，其光刻设备主要是紫外光刻直写设备。

4、赛微电子

其跟ASM合作，有着数台光刻机，还替世界光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发以及晶圆制造服务。

5、最看好的一家，或将成为中国版“阿斯麦”？下个“剑桥科技”？

看好理由如下：

1、光刻机+5G+人工智能，未来前景行业，国内材料分销行业从事应用服务的先行者。

2、公司小而美，30亿不到，基本面向好，毛利率、净利润率都非常不错，净利润同比增长204.74%；

3、机构也看好该股，已经大笔入局，且该股近期上涨趋势确立，有望加速！