苏大维格：已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力
【苏大维格：已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力】财联社9月14日电，苏大维格在互动平台表示，根据相关资讯，佳能等国际厂商拟尝试通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产，公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。
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