运一台ASML无需四架747,中国要建大工厂，把光刻机“白菜化”

中国的光刻厂：将光刻机“白菜化”

中国正朝着光刻机制造业的巅峰迈进，他们提出了一个令人惊讶的解决方案：建设自己的光刻厂，从而将光刻机变得不再昂贵。对于全球光刻机巨头ASML来说，这无疑是一个巨大的威胁。

ASML总裁温宁克承认：中国的光刻机技术无法被封锁。这个表态的原因主要是两个方面：一是因为为了制止中国的崛起，美国对芯片制裁越来越严厉，ASML的许可证只到2024年，以后将无法进入中国市场，丧失了大客户；二是中国面对任何压力都会变得更加努力，特别是在突破了7nm工艺限制后，他们现在又提出了解决EUV光刻机问题的方案，让ASML感到震惊。

光刻机一直以来是中国半导体设备制造业的痛点。尤其是在顶尖的EUV光刻机方面，中国一直没有突破。ASML三年前曾经嘲笑中国，认为他们即使拿到了完整的制造图纸也无法制造出光刻机。然而，现在中国凭借清华大学的研究取得了重大突破。

他们提出了名为“稳态微聚束”的新型粒子加速器光源技术，通过一台大型的“稳态微聚束光源”分光给数十台乃至上百台光刻机使用。这一技术的重要性在于，中国绕过了ASML的技术壁垒，直接实现了低至3纳米的制程加工。换句话说，中国现在能够像挑苹果一样，从海量的芯片中选取精确达到要求的芯片。

这个方案对中国来说具有巨大的意义。一方面，他们不再受限于EUV光源，突破了ASML独占的技术优势。另一方面，这也展示了中国在自主创新方面的强大实力。中国半导体协会声称“半导体需要中国”，这是因为中国拥有世界最大的消费市场和强大的工业能力，可以支撑起最顶尖的半导体产业。

然而，要实现光刻厂的建设并非易事，这需要大量的电力供应，还涉及到诸多工程难题和基建能力的考验。但相信在中国人勤劳聪明的努力下，他们将找到解决问题的方法。

中国的光刻厂将使中国在半导体制造业中处于领先地位。到2025年，中国有望解决所有制约自主研发的问题，建成全工业门类全产业链均可自研自产的国家。届时，中国将实现内循环自成天地，外循环锦上添花，任何国家都无法再限制他们的发展。

光刻机的神话：荷兰EUV光刻机的技术优势

光刻机对于半导体制造业来说，扮演着至关重要的角色。特别是EUV光刻机，被誉为“工业皇冠上的明珠”。一台先进制程的光刻机，售价可以达到3亿到4亿美元，重达180吨，零部件超过45万个。运输一台光刻机需要40多个恒温恒湿专用箱和专业防震气垫车，以及4架波音747货机。荷兰EUV光刻机的优势在于其极紫外光源，可以加工低至3纳米以下的制程，为产业技术的发展提供了动力。

然而，荷兰EUV光刻机也因此塑造出了一个“技术神话”。ASML三年前声称，即使给中国所有制造图纸，他们也无法制造出光刻机。这让中国在光刻机技术方面一直处于相对落后的状态，无法跟上世界的顶尖水平。

中国的突破：稳态微聚束光源技术

然而，中国并没有被这个技术神话所阻挡。他们通过稳态微聚束光源技术的研究，找到了解决EUV光刻机问题的新方案。该技术将电子束聚焦到非常小的直径，被广泛应用于电子束刻蚀和电子束光刻中。中国可以利用这个技术，建造一台大型的稳态微聚束光源，通过分光给多台甚至上百台光刻机使用。这样一来，中国不再受EUV光源的限制，直接跨过ASML的技术壁垒。

中国的这个突破意味着他们可以像挑苹果一样，从海量的芯片中选取精确达到要求的芯片。这对于中国来说具有巨大的意义。而对于ASML来说，则是一种巨大的威胁。他们原本独占的技术优势被中国突破，将面临丧失中国市场的风险。

中国的优势和前景

中国芯的发展前景十分广阔。中国不仅拥有世界最大的消费市场，还有强大的工业能力和全产业链。半导体制造需要大量的工程设施和电力供应，而中国在这方面已经相当强大。他们的光电、水电、煤电、风电基本都达到了世界顶尖水平，为半导体产业提供了坚实的基础。

中国的光刻厂建设将使他们在半导体制造业中处于领先地位。到2025年，中国有望解决所有自主研发的问题，建成全工业门类全产业链均可自研自产的国家。届时，中国的半导体产业将实现内循环自成天地，外循环锦上添花，任何国家都无法再限制他们的发展。

总结：

中国通过稳态微聚束光源技术的突破，打破了荷兰EUV光刻机的技术优势，将光刻机变得更加普及和可用。这对于中国的半导体制造业来说是一个重大的突破，也对全球光刻机行业构成了巨大的威胁。中国的光刻厂建设将使他们在半导体制造业中处于领先地位，为中国的半导体产业发展提供了坚实的基础。