日本光刻技术取得突破，得到广泛关注，引发美国等国的警惕！

日本在光刻芯片上取得的突破性进展，实在是令人侧目。佳能在十月十四日公布其以奈米打印为基础的晶片制造装置FPA-1200NZ2C，可应用于5奈米制程的晶片。纳米打印被视为一种廉价的光学光刻方法，该装置的问世标志着日本在晶片生产方面的科技力量不可小视。

和阿斯麦的光刻机技术相比，佳能公司的光刻机，简直就是小巫见大巫。

这种新的工艺看起来更像是一种打印工艺，它把芯片的微结构像打印一样转印到硅片上。这项技术的优势是，在硅片上可以制作出更小更致密的线路，这样就可以制作出更高效能的晶片。

佳能在这方面取得的进步对日本而言意义重大。虽然日本在晶片制造业上已不复昔日的霸主，但其在半导体原料及器件方面仍有相当的影响力。现在，佳能公司引进了这种高科技的晶片制造设备，日本的半导体工业将会有更大的发展。

另外，这个新闻也给其它国家敲响了警钟，特别是像美国这样的高科技强国，要提高对日本的技术力量与潜力的警觉。虽然日本一度是晶片之王，但是由于美国的压力，它的半导体工业也慢慢地垮塌了。不过，日本一直没有放弃对半导体技术的研究与革新，今天的突破也是日本在技术上不可低估的一种有力的证据。

总的来说，佳能在技术上的进步是日本在半导体行业中的一种逐步上升的信号，这种上升不可避免地会引起像美国这样的国家的警觉。

注意：纳米光刻（Nanoprintedlithography）一般被看作是一种廉价的光学光刻方法，以前 SK海力士、铠侠等存储器晶片厂商都曾经采用过这种方法。铠侠之前也做过一次测试，但后来有顾客抱怨，说这款产品有很大的问题，最终还是放弃了。