广州：鼓励发展光刻胶、光芯片等高端半导体制造材料

《广州开发区广州市黄埔区促进集成电路产业发展办法》今日发布，文件提到，鼓励发展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光材料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制造材料，支持清洗设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、沉积设备、封装设备(划片机、减薄机、引线键合机、倒装键合机及贴片机等)、检测设备(测试机、探针台等)以及单晶生长炉、外延生长炉等设备、关键零部件及工具国产化替代。对当年产值首次达到2000万元、5000万元、1亿元、3亿元、5亿元、10亿元的集成电路装备、材料、零部件类企业，经认定，分别给予20万元、50万元、100万元、200万元、300万元、500万元的扶持，同一企业按差额补足方式最高扶持500万元。（广州市人民政府[网站]( https://www.gz.gov.cn/gfxwj/qjgfxwj/hpq/qbm/content/mpost_9288355.html)）