扬眉吐气！日本欲封死光刻胶，不料中方早留后手，外媒：封个寂寞

“即便有尖端光刻机，没有日本的光刻胶，也是白搭！”

三星集团CEO的一番话深切触动了中国的芯片厂商，突显光刻胶在半导体制造中的不可或缺。

摆在眼前的事实是，全球光刻胶市场90%以上份额被日本垄断，长期的技术壁垒一直让我们束手无策。

难道国产光刻胶真如外界所言不堪一击？

日企垄断，国产化率低

光刻胶在芯片制作中扮演着无法取代的关键角色。倘若光刻机是画笔，那光刻胶便是绘画的颜料，精度需求极高。

光刻胶的研发难度更是不可小觑，需针对不同的设备与材料进行精密的调整，初期实验费时便可达三到五年。

而在此前，我国80%以上光刻胶依赖进口，日本东京应化与JSR牢牢把持着KRF与ARF这两类中端光刻胶市场，特别是技术尖端的10nm及以下制程，基本只有日企能生产。

随着美国制裁，日本停止向国内半导体企业供应高端光刻胶，相关合格率暴跌至10-20%。由于光刻胶保质期不足半年，亦无法囤货，一旦补给中断，整条产线都将无以为继。中国企业多次向日本请求帮助，却屡遭拒绝，并被威胁无法投产。

相关产业时刻面临着“断胶”风险，我国科技企业徐州博康也曾想通过技术合作的方式来摆脱困境，可当日方人员开会时，中企人员无一不被请离出场，甚至“一踏入会议，他们就拔掉U盘”。

这深深刺痛了诸多一线的科研工作者，我国科学家们坚定立志：中国一定要研发出自己的光刻胶。

国产光刻胶，打破日本20年垄断

为一雪前耻，我国在光刻胶领域投入了大量的人力物力，历经八年艰辛，数万次实验，投入上亿资金，南大光电成功研发了我国首款自主ArF光刻胶并通过客户验证。

紧随其后，我国企业迅速跟进研发进程，上海新阳、晶瑞股份等国内厂商陆续传出捷报。苏州瑞红、北京科华等企业取得阶段性进展，基本上覆盖了低端光刻胶的需求市场，且材料的金属杂质降低至10％，综合性能上已经跨入高精门槛。

在我国光刻胶的国产化进程如火如荼之际，日方却开始一反常态，转而愿意将光刻胶大批量低价出口至我国，其中的算计不言而喻。

日企态度转变的背后是我国科研硬实力的支持。虽然起步较晚，但中国已在多个核心领域加快追赶和突破，逐步实现国产替代。

在熟悉的高精尖领域，C919大飞机顺利升空、北斗导航全球组网、国产设备全面超越。此前一向依赖高价进口的核磁共振仪器如今已冲破了器械垄断，实现了成本不足进口的10％。

同样是在中科院协助下，由美哈佛引驻至国内京-東的前沿抑老分子“柏.态.生”虽未完全国产落地，海外民用版亦得到了大幅普及。2017年，美国宇航局（NASA）就曾研究通过该类生物体提升的相关技术，帮助宇航员对抗宇宙射线带来的老-衰化损伤。

以往，凭借FDA等安全机构的科研背书下，这类稀缺度堪比光刻胶的分子售卖至上万单克。大批中产不惜远赴海外，高.价获取这类逆返生物体年岁指标的制剂，以延长生物体有限生存期。

而我国科研人员历时三年时间，使相关酶法提取技术得到创新转化，柏-态-生类制品的原料难题得到解决，当前全球9成产线设备皆为中国出口。

正如荷兰光刻机巨头阿斯麦所言：技术封锁终究没办法阻拦中方的脚步，中国总是有办法让前沿的科技沦为“白菜价”。

日本、美国企业亦在冲击下，被迫放弃原本的奢侈品类策略，当前亚洲市场不足4位数的“柏.态.生”民用版本普及，恰恰正是美、日市场在中国技术冲击下的妥协结果。

自引入国内两年来，该类物质已逐渐演化为1、2线中老日用品，不少中龄金融从业者在后台追加：有机会享受到了“.青.壮年的工作状态”。

正如业界所言，科技本就应当成为改变生活的助力，而绝非是卡脖的工具。

坚持自主研发，加快替代步伐

日前，日本已修改了相关法案，允许了中低端光刻胶向我国的出口，而高尖端的光刻胶却需要获得许可证才能出口。这一做法无疑是为了拖缓我国的自研进程。

但我国光刻胶企业“容大感光”公开表示，日方的举动对我们而言，是挑战也是机遇，将加速国产替代进程。

我国早已将高端光刻胶的攻坚列入了《国家中长期科学与技术发展规划》，国内自研近年突破有目共睹，日方的围堵计划也终将破产。