尘埃落定！ASML事件基本结束，拜登苦努一场空

尘埃落定！ASML事件基本结束，拜登苦努一场空

从一开始，美国就对中国的芯片行业进行了全面的压制，甚至不惜对ASML施加压力，希望能够阻止美国对光刻机的供货，然而不管美国怎么劝说，ASML还是坚持要将光刻机提供给本土企业。

光刻机作为一种关键技术，可以说是整个半导体行业不可或缺的一部分，所以光刻机有“工业明珠”之称。14nm和更低制程的光刻机，ASML几乎是一家独大。

ASML公司的深紫外光刻设备，用于制造28纳米以下的半导体，而EUV则是用于制造小于7纳米的半导体，尽管现在已经有不少公司具备了制造DUV的技术，但它们的产量与ASML相比还是差得太远了。

于是美国对中国的半导体行业进行了压制，同时也将目光投向了ASML，当ASML光刻机大规模生产时，美国便利用瓦森纳协定对其进行了限定，使得已经下了EUV的国内企业，根本拿不到产品。

而随着芯片等相关法规的不断修订，ASML在光刻领域的发展同样受限，不过出于对收入和盈利的考虑，ASML最终还是“无视”了这一点，并将目光投向了中国。由于ASML拥有世界上最先进的光刻机生产技术，所以美国也没办法和ASML硬碰硬，但他们也希望能够在14nm以上的制程上有所突破，所以才会成立“Chip4”同盟，向ASML施加压力。

顺便说一句，美国还联合日荷三国签署了三国贸易协定，以遏制半导体器件出口，这对ASML来说，无疑是一种巨大的负担。

有消息称，日本方面已宣布将于今年对与其有关的半导体器件出口进行管制；荷兰方面也做出了让步，称将与美国合作，自今夏起实施对与其有关的半导体器件的出口控制。

然而，出乎拜登意料的是，ASML公司竟然在官网上发表了声明，称荷兰将对2000i系列和之后的光刻机进行了严格的管制，而1980Di等机型则被排除在外。

也就是说，1980Di光刻机，能够提供38纳米的曝光精度，而光刻机，则可以在7纳米的时候，进行多次曝光，才能生产出来。

ASML的事情，随着ASML的正式公布，也就意味着美国政府的努力白费了，中企还能拿到一些深紫外光刻机。

其实ASML一直以来的立场都很坚决，不会停止对本土企业的光刻机等设备的供货，甚至在短短几天之内，便将上百台DUV光刻设备发货给了国内企业。

同时，ASML公司也打算在未来的一段时间内，继续扩充DUV光刻等相关的生产规模，并希望在2025年之前，将生产出超过600部的DUV光刻机。

而且最主要的原因，就在于美国方面不停地打压中国企业在半导体产业上的发展，以及对中企业的高端半导体制造企业的供货，却不想最终被国产企业给打破了。

华为这次推出的畅享60系列，所使用的也是麒麟740A，这款处理器是国产14nm制程制造出来的，属于国产品牌。徐直军也说了，华为的EDA软件开发小组，正在与其他公司合作，开发出14纳米以下的EDA软件，并将其应用到14nm及更高制程的EDA软件中。

更何况，ASML还承诺，会提供一些深紫外光刻机，这也就意味着，美国的努力，算是白费了。