俄罗斯光刻机大跃进：2024年剑指350nm，2026年挑战65nm巅峰！

近日，俄罗斯媒体曝出惊天消息：俄罗斯正在自研光刻机，并计划于2024年开始量产350nm制程芯片的光刻机，2026年更是要挑战量产65nm制程芯片的光刻机！这消息一出，立刻在科技界掀起了轩然大波。

据俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak透露，俄罗斯已经掌握了使用国外光刻机制造65nm芯片的技术，但因为外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的光刻机，所以俄罗斯正在积极开发自己的光刻机。这不禁让人想起那句话：没有半导体主权，就没有技术主权，这将导致国防安全和政治主权方面非常脆弱。看来，俄罗斯这次是真的要自力更生，自主研发的道路上越走越远了。

据悉，俄罗斯计划在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行光刻机的生产。看来，俄罗斯这次是要动真格了，不仅要研发出先进的光刻机，还要在自己的工厂里进行生产。这对于俄罗斯的半导体产业来说，无疑是一次巨大的飞跃。

当然，自研光刻机并不是一件容易的事情。当被问到可能遭遇的阻力时，Vasily Shpak表示：“我不想抱怨，所有的问题都不是问题，因为这关系到我们拥有哪些机会，以及所设定的目标。”这种乐观的态度让人对俄罗斯的自研之路充满了信心。

据了解，俄罗斯决定开发350nm到65nm光刻机的原因在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上，这些应用大约占据了整个市场的60%。所以这类光刻机在全世界市场的需求量很大并且将在至少10年内有持续的需求。看来俄罗斯这次自研光刻机的决策是非常明智的不仅可以满足国内市场的需求还可以在国际市场上占据一席之地。

不过值得一提的是俄罗斯自研光刻机的道路并不是一帆风顺的。因为国外企业对俄罗斯的出口限制所以俄罗斯在研发过程中遇到了一些困难。但是俄罗斯并没有放弃而是选择了自主研发的道路。这种自力更生的精神让人深感敬佩。

而对于我们国内的企业和技术来说俄罗斯的自研光刻机也是一个很好的借鉴。我们应该对国内的技术和企业有信心相信我们也能够自主研发出先进的光刻机满足国内市场的需求并在国际市场上占据一席之地。当然我们也应该看到自研光刻机的道路是充满挑战和困难的但是只要我们坚持自主研发的道路相信我们也能够取得成功。