ASML：其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销

ASML在官网发布声明称，其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销，影响了中国大陆的一小部分客户。

ASML还称，公司在最近与美国政府的讨论中，获得了美国出口管制规定范围和影响的进一步厘清。美国去年10月17日公布的出口管制新规，对用于一些先进生产设施的某些次关键DUV浸没光刻系统施加了限制。

ASML在2023年承诺将最先进的浸润式DUV光刻机卖给中国，现在限制加剧，无疑给未来蒙上一层阴影。

什么是DUV浸没光刻机？

浸润式DUV光刻机作为最先进的光刻技术之一，具有重要的应用价值和市场需求。它通过使用深紫外光技术，可以进行高精度和高分辨率的图案刻写，成为集成电路制造、微纳加工和生物医药等领域的关键设备。

浸润式DUV光刻机的关键技术主要包括镜头设计、光源、底片和液体浸润介质等方面。镜头设计要保证光学系统的高分辨率和光学性能；光源要提供稳定的深紫外光能量；底片要具有高平整度和低光刻胶吸附性能；液体浸润介质要保证在光刻过程中的稳定性和光刻效果。

ASML公司的产品线包括浸润式DUV光刻机、多重场光刻机和极紫外光刻机等。其中，浸润式DUV光刻机是ASML的核心产品之一，具有在微米、纳米级尺寸下实现高精度图案刻写的能力。ASML公司凭借技术优势和可靠性，在浸润式DUV光刻机领域占据重要地位。

中国市场对最先进浸润式DUV光刻机的需求主要体现在两个方面。一方面，中国集成电路制造业正加速发展，需要更高分辨率和更精确的光刻技术来满足制造需求；另一方面，中国的科技创新和高端制造需求日益增长，对光刻机技术的进一步提升和创新有着迫切需求。