清华大学光刻机技术重要突破，中国芯震荡回升，外媒见证科技崛起

清华大学光刻机技术重要突破，中国芯震荡回升，外媒见证科技崛起

当华为等中国公司开始蚕食西方公司在手机芯片、通讯、数字基建等领域的市场份额时，以西方为代表的美国开始视我国为"壁垒"，不惜一切代价，例如芯片。

先是将中国企业列入实体清单，禁止其提供相关产品，然后又联合了美国的技术公司，与全世界的光刻机公司达成了"三方协议"，控制了全球高端光刻机的流向。

中国是世界上最大的芯片消费国，芯片短缺必然会给国内的技术、经济带来巨大的影响。因此，发展具有自主控制能力的光刻技术，是解决芯片制造难题的关键所在！

最令人骄傲的是，我们拥有如此优秀的人才，当某些技术被卡脖子时，国人的斗志就会被激发出来，我们会很快将基础理论与方法拿过来学习，并且在很短的时间内攻克这些技术难关，因此，偶尔也会有一些"好消息"从国产芯片中传来。

清华的功绩

清华大学汤传祥团队更是打出了"王炸"，发表在《自然》上的一篇论文，题目是《稳态微聚合物光束原理的实验演示》，报道了其团队利用PTB（PTB）光源实现了世界首例稳态微聚合物束的实验。

文章称，该实验基于稳态微聚合物光束的基本原理，可在太赫兹至极紫外波段实现大功率、高频、窄带相干辐射。由于这种光源可以作为极紫外光刻技术的光源，清华大学在这方面取得了很大的突破，因而备受关注。

光刻技术是芯片制造产业链中最关键的一环，也是最难的一环。光刻精度直接影响到芯片集成晶体管密度，进而影响芯片性能与能量效率，而光刻精度主要依赖于光源的曝光分辨率与波长。

ASML公司的极紫外光源主要采用准分子激光对锡靶进行辐照，产生13.5nm的极紫外光，这是一项高端技术，但却掌握在ASML等西方国家的手中。

清华大学主导的稳定型微聚合物束是一种更具创新与颠覆性的新型粒子加速器光源，其波长可调，适用于多个器件，甚至下一代Blu-X6nm光源都能满足未来极紫外光刻需求，更不用说当前的EUV光源。

据了解，清华大学已在国家层面上大力支持并推动微聚合物束极紫外光源的研制工作，使我国芯片研发实力迅速摆脱美国“三方协议”的束缚。

国产芯片卷土重来

值得一提的是，光源已经成为了国产高端光刻机的最后一道工序。

光刻机主要包括三个子系统：光源、透镜和工作台。中科凯米的镀膜单元精度达到了0.1纳米，完全能够满足极紫外透镜的制备要求。华卓精密联合清华大学研发的双工作台技术，打破了长期以来ASML公司“双工作台”的垄断局面，实现了国产化程度的提高。目前，清华大学光源研究取得重大突破，对加速我国极紫外光刻技术的发展具有重要意义。基于此，有外媒说中国的芯片又要卷土重来了！

ASML方面表示，光刻机不是我们能够制造出来的，所以零部件之间的匹配、发挥出最好的性能，还需要产业链上下游的密切合作，不断地进行技术创新与研发，提高零部件的性能与质量，同时还要加强人才培养与引进，才能保证芯片工业的发展。对于国产芯片工业的前景，我们是有信心的。我们坚信国产芯片工业的前途我们坚信国产芯片工业的前途是光明的！