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ASML浸润式DUV光刻、EUV光刻机断供!

光刻机市场现状

目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML垄断,ASML一家就占了全球90%的份额。ASML的先进光刻机技术在市场上占据重要地位,特别是浸润式DUV光刻机EUV光刻机浸润式DUV光刻机主要应用于65-7nm工艺制程,而EUV光刻机则用于7nm以下的工艺制程。ASML在先进技术领域的份额更加突出,其在ArFi光刻机市场占有95%的份额,而在EUV光刻机市场则实现了百分之百的垄断。

ASML的禁售危机

由于ASML垄断了先进光刻机市场,一些国家出于各种原因开始限制光刻机的出口,其中包括美国和日本。美国在之前不允许ASMLEUV光刻机销往中国大陆,这导致中国大陆的晶圆厂至今没有自主使用EUV光刻机的能力。之后,美国联合日本和荷兰,进一步对光刻机实施限制。日本禁止所有的浸润式光刻机出口到中国大陆,而荷兰的ASML表示,只有一台NXT:1985Di浸润式光刻机能够出口。然而,在2023年10月,美国的禁令再次升级,ASML唯一能够出口的浸润式光刻机也被禁止了,不再能够销往中国大陆。尽管ASML表示他们在2023年内获得了许可证,但从2024年开始,所有浸润式光刻机都不能再销往中国大陆。因此,可以说ASML浸润式DUV光刻机EUV光刻机已经正式断供。

中国大陆的光刻机采购潮

面对ASML光刻机断供的情况,中国大陆晶圆厂急需采购光刻机以应对扩大生产的需求。数据显示,截至11月份,中国大陆向ASML光刻机进口金额已经超过500亿元,比2022年增长了三倍左右。中国大陆利用ASML还能销售浸润式光刻机的时机,疯狂大量采购并囤积光刻机,以备不久之后的供需紧张。根据业内人士的预测,中国大陆目前从ASML采购的光刻机应该能够支撑国内晶圆扩产需求约三年左右。然而,三年之后,甚至不需要等满三年,可能就会再次面临光刻机的短缺,尤其是尖端的ArFiEUV光刻机

国产光刻机的突破

为突破光刻机供应短缺,国内芯片产业势必需要发展自主的光刻机技术。由于ASML在短期内无法获得出口许可证,国内研发浸润式ArFi光刻机EUV光刻机的能力将会成为关键。中国大陆的微电子水平目前还停留在ArF光刻机,工艺制程也只达到90nm,因此国内长期以来一直大量采购ASML光刻机。然而,随着技术升级的限制和未来的断供风险,国内芯片产业需要加快自主研发能力的培养,以确保国内光刻机技术的突破和发展。

总结与展望

目前,ASML浸润式DUV光刻机EUV光刻机因禁售将无法继续供应到中国大陆。面对ASML光刻机断供的挑战,中国大陆的晶圆厂采购光刻机的速度大幅加快,以满足扩大生产的需求。然而,长期来看,国内芯片产业需要依靠自主研发光刻机技术,特别是浸润式ArFiEUV光刻机的突破,以确保自身的可持续发展。当前的光刻机采购热潮只是短期应对策略,未来的发展必须寻求自主创新,使国内的光刻机技术能够达到国际先进水平,确保芯片产业的竞争力和可持续发展。通过不断加大科技投入和研发力度,中国大陆有望在光刻机领域取得突破性进展,并带动芯片产业整体的发展壮大。

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