日本巨头官宣全新光刻机，精度小于2.1nm，能供货中国吗？

日本巨头官宣全新光刻机，精度小于2.1nm，能供货中国吗？

ASML是世界上最大的光刻公司之一，几乎垄断了世界上80%的光刻市场，并且垄断了100%的EUV光刻技术。不过ASML并不是唯一一个生产光刻机的国家，日本在光刻机方面，也是相当强大的。日本尼康公司推出一款新型光刻机，其精度在2.1nm以下，这些光刻机能否被运往中国？

尼康正式推出其新光刻技术

光刻机是微电子电路制造的核心元件，ASML作为全球光刻机的领导者，占据着全球市场的主导地位。

ASML公司的光刻机在半导体工业中得到了广泛的应用，为众多芯片生产商提供了高精度和高性能的解决方案。ASML的光刻机虽然性能不错，但也不是随随便便就能生产出来的。高端EUV光刻机已经缺货很多年了，到现在都还没有量产。

此外，荷兰还盯上了深紫外光刻机，以制订适当的运输规则，未来可能会限制低端光刻机的出货。对于日本光刻机生产商而言，这是一次机遇，因为它们属于低端产品，日本的光刻机也能达到同样的要求。

尼康看出了其中的商机，20多年之后，又推出了一款新的相机。据尼康官方公布，其新光刻型号为NSR-S636E，采用浸入式ArF光刻机。

在结构细节上，这款光刻机使用了改良的iAS设计，其动量叠加精度优于2.1纳米。相较于其它尼康的光刻设备，产能提升10%到15%，也就是每小时可以生产280片晶片。

NSR-S636E在三维快闪记忆体，CMOS影像感测器，以及高级逻辑与记忆体晶片上，显示出高效能。ArF浸入式光刻技术虽非先进光源，却能改善光刻的分辨率及图形的精确度，让晶片制造商可以制造出更小更密实的晶片结构。

它可以供应给中国吗？

明年一月，尼康将正式发布一款新型光刻机，而尼康的相关官员也透露了相关的参数。据预测，该公司在低端和低端芯片的制造领域有很大的发展空间。这台光刻机能送到中国吗？

值得一提的是，七月二十三日日、美、荷三国达成一项协议，日本针对包括光刻机在内的23种半导体设备出口管制规定。

不过，新规定并没有对将来的光刻机进行出口限制，也就是说，从理论上讲，尼康的NSR-S636E光刻设备不会受到管制。

既然ASML的深紫外光刻设备已经能够运到，那么日本没有理由对本国公司设置障碍。失去中国市场不会给日本带来什么好处。

当然，这仅仅是一种理论，实际上很难说日本不会成为众矢之的。只有等到明年，尼康发布了新型光刻设备，加入中国市场，我们才能知道答案。

咱们不能寄希望于别人，我们自己研究出来的光刻机技术，可不能落下。只有掌握了基础技术，才有可能在市场上生存下去。