ASML公布，EUV光刻机细节曝光，反思之余值得关注！

ASML公布，EUV光刻机细节曝光，反思之余值得关注！

ASML公司的 EUV光刻工艺是目前半导体行业最尖端的工艺，在芯片生产中起着至关重要的作用，而目前世界上仅有 ASML公司一家拥有。

EUV光刻机的研制失败，有很多因素，其中包括技术、产业链、资金、人才，这些都不是中国能够涉足的。

首先，极紫外（EUV）光刻是一项具有国际领先水平的先进工艺，其所需光学系统、光源以及材料均具有非常高的性能。

ASML是世界上最大的 EUV光刻机生产商之一，拥有一支规模巨大的科研队伍，掌握着众多的核心知识产权。

当前最大的问题是缺乏对该领域的深入认识，也缺乏自主研发核心技术的能力。

同时，极紫外光刻过程涉及到复杂的光学系统，且具有微纳精度，因此，对其制造工艺与制造过程的把握提出了极大的挑战。

其次，极紫外光刻技术涉及到光刻胶、掩膜和光刻部件等大规模、高集成度的产业链。

在这一点上，尽管我们已经具备了一些半导体产业的基础，但是相对于 ASML，我们还存在着产业链完备、集成度不高的问题。

第三，极紫外光刻对经费的需求很大， ASML公司对此进行了大力投资。

尽管中国在前段时间几年增加了投资，但对像 ASML这样的巨人而言，资金投入依然是一项艰巨的任务。

同时，由于国际半导体市场对 EUV光刻机的需求量较大，且 ASML在这一领域具有较强的垄断性，中国国内极紫外光刻机的研发空间较小。

第四，极紫外光刻是一项需要光学工程师，物理，材料等多个学科的专家参与的高科技项目。

中国急需更多的高层次人才进入该领域，组建多学科研究团队，加强国际间的交流与合作，是推进我国自主创新能力的重要途径。

或许正是因为技术上的不足，以及产业链上的不足，以及人才上的不足， ASML才不怕向中国学习。

为此， ASML公司前段时间将其最新款极紫外光刻机的内部图像公布给大众，整体图像十分清楚、直观。

或许，对于西方国家来说，就算 EUV光刻机把一切都告诉了我们，中国也无法窃取其零件，而本土制造商也无法进行仿制。

有些网友表示，极紫外光刻工艺太过复杂，甚至连图纸都摆在眼前都不一定能造出来。

别说是 EUV光刻机了，就算是深紫外光刻机，在镜头上都难以超越中国，因为现在国产光源还做不到微型化。

然而，仍有部分比较客观的网友表示，光刻并非神迹，非外星人所为，中国将攻克极紫外光刻，只是时间问题。

中国能够利用5 nm的多重曝光制程制造10 nm制程晶片，其缺陷在于良率及产能低下，但仍有可能实现。

网友也信心满满地表示，以前国外吹什么生物发动机，航母电缆，徒手撕钢板，隧道掘进机， CT机等等，但如今中国一个接一个地被攻克，中国人相信， EUV光刻早晚会做出来。