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报道称,在AI芯片竞赛中落后的三星将引入竞争对手SK海力士的先进芯片制造技术。
三星计划在其最新的HBM芯片中同时使用NCF和MUF制造技术。
三星已经下达了用于MUF技术的芯片制造设备采购订单,但大规模投产或等到明年。
腾讯科技讯 3月13日消息,据国外媒体报道,援引多位知情人士透露,韩国三星电子公司宣布启动全新芯片制造计划,此举旨在借鉴竞争对手SK海力士的先进芯片制造技术,以在全球高端人工智能芯片生产竞赛中迎头赶上。
不过,三星电子方面回应称,关于其将在HBM芯片生产中应用MUF技术的传言并不属实。
随着生成式人工智能技术的迅猛发展,市场对高带宽存储(HBM)芯片的需求呈井喷之势。然而,与同行SK海力士和美光科技相比,三星在与人工智能芯片巨头英伟达的交易中却缺席了。如今,三星决定另辟蹊径,开启新工艺,以满足市场对最新HBM芯片的迫切需求。
业内分析人士和观察家们普遍认为,三星电子在这场竞争中之所以落后,很大程度上源于其坚持采用非导电薄膜(NCF)芯片制造技术,这项技术曾一度引发生产问题。相比之下,SK海力士则明智地转向批量回流模制底部填充(MR-MUF)方法,有效解决了NCF技术的弊端。
然而,据三名知情人士透露,三星最近已下达采购订单,采购用于MUF技术的芯片制造设备。他们表示:“三星必须采取果断措施,提高HBM芯片的产量。对于三星而言,采用MUF技术无疑是一种屈辱,因为它最终走上了SK海力士最初选择的道路。”
据多位行业分析师认为,三星电子在HBM3芯片生产上的良率表现并不理想,仅维持在10-20%的水平。相比之下,其竞争对手SK海力士的HBM3良率高达60-70%。
HBM3和HBM3E,作为HBM芯片的最新迭代版本,正逐渐成为市场的宠儿。它们与核心微处理器芯片的紧密结合,为生成式人工智能处理海量数据提供了强有力的支持。
据知情人士透露,三星正在积极与材料制造商展开谈判,其中包括日本的Nagase等公司,旨在获取MUF材料的稳定供应。然而,尽管三星已经下达了用于MUF技术的芯片制造设备采购订单,但由于需要进行更多的测试和优化,使用MUF技术大规模生产高端芯片最早可能要到明年才能准备就绪。
值得注意的是,三星计划在其最新的HBM芯片中同时使用NCF和MUF技术。尽管三星表示其内部开发的NCF技术是HBM产品的“最佳解决方案”,并将用于新的HBM3E芯片,但显然,三星也意识到了MUF技术在提高良率和性能方面的潜力。
三星使用MUF技术的计划,无疑是其在人工智能芯片竞争中迎头赶上的重要举措。根据研究公司TrendForce的数据,受人工智能相关需求的推动,HBM芯片市场今年预计将实现翻倍增长,市场规模将达到近90亿美元。
KB Securities资深分析师杰夫·金(Jeff Kim)近日预测,SK海力士今年在供应英伟达所需的HBM3及更高级HBM产品上的市场份额将突破80%。与此同时,美光科技也在上个月高调进军高带宽存储芯片领域,宣布其最新研发的HBM3E芯片已获英伟达青睐,将为后者的H200 Tensor芯片提供强大动力,这款芯片预计将于今年第二季度开始发货。
然而,据内部知情人士透露,三星的HBM3系列产品尚未通过英伟达的供货资格认证。
三星的这一挫折也引起了投资者的密切关注。今年以来,三星的股价已累计下跌7%,不仅落后于竞争对手SK海力士的17%涨幅,也未能赶上美光的14%增幅。(编译/金鹿)
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