突发！曝国产5nm芯片流片成功，华为机皇现感人价遭疯抢！

硅基芯片制造离不开光刻工艺，而光刻机是关键设备。干式光刻机ArF Dry最多实现65nm制程，浸润式光刻机ArFi实现7nm，7nm以下需EUV光刻机。国内芯片工艺卡在14nm，光刻机受限是主要问题。但实现5nm芯片，除EUV光刻机外，还需多束电子束光刻机，用于制造光掩膜板。全球仅4家企业能制造此设备，其中日本Nuflare占90%份额。电子束光刻机也受《瓦森纳协定》管控。国产芯片产业链需全面发展，不仅依赖单一设备。

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