佳能2nm纳米光刻机曝光，华为发力美方胆颤，机皇沦为百元机！

在去年十月的科技盛会中，佳能凭借其全新的纳米压印技术（NIL）光刻设备FPA-1200NZ2C，为小型半导体制造商描绘了一条通往先进芯片制造的新路径。近日，佳能负责新型光刻机开发的高管武石洋明在媒体采访中透露，这款备受瞩目的设备预计将在2024年至2025年间正式投入市场。

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传统的光刻技术，如同一位细心的画家，利用光学图像投影的原理，将集成电路的微观结构逐一描绘在硅晶圆上。而佳能所开发的纳米压印技术，则更像是一位高效的印刷师，它摒弃了复杂的图像投影过程，而是直接利用模板进行大规模的复制，如同在一张巨大的纸上压印出精致的图案。

佳能对于纳米压印技术的研发已经走过了超过15年的历程，他们一直在探索如何通过这一新技术，为半导体制造带来更低的成本和更高的能源效率。如今，随着FPA-1200NZ2C的即将问世，这一愿景正逐步变为现实。