​High NA EUV光刻机2024最新进展与挑战分析

EUV光刻机堪称是人类科技美学的集大成者，其复杂度精密度令人叹为观止，而高数值孔径极紫外光刻技术（High NA EUV）则是极紫外光刻技术（EUVL）的又一个重要升级，它通过使用更高数值孔径的镜头来提高光刻系统的分辨率和产量。数值孔径（NA，Numerical Aperture）是光学系统中描述光学系统收集光线能力的一个参数，因为数值孔径越大，光学系统的分辨率就越高。不过High NA EUV光刻机也面临诸多挑战，这个视频深刻分析了High NA EUV主要关键技术和技术挑战。