光刻机突发，商务部重磅回应！

9月6日，光刻机巨头阿斯麦（ASML）在官网发表声明称，荷兰政府公布了浸润式DUV光刻机出口新规。

根据更新后的许可要求，并据美国出口管理条例734.4.(a).(3)，ASML需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCANNXT:1970i和1980i DUV浸润式光刻系统。荷兰出口许可要求已适用于TWINSCANNXT:2000i及后续DUV浸润式系统。ASML的极紫外（EUV）系统的销售也需遵守许可要求。 荷兰政府发布的最新许可要求将于9月7日起生效。

有消息称，荷兰政府周五新公布的出口管制规定，要求ASML就其部分机器向海牙而非美国政府申请许可证。ASML发言人Monique Mools表示，“由于新的要求，ASML将需要向荷兰政府申请出口许可证，而不是向美国政府申请光刻机TWINSCANNXT:1970i和1980i的出口许可证。预计新规不会对我们2024年的财务前景产生任何影响，也不会对2022年11月投资者日期间所传达的长期前景产生任何影响。”

9月8日消息，商务部新闻发言人就荷兰半导体出口管制问题答记者问。

问：9月6日，荷兰宣布将扩大光刻机的管制范围。请问中方对此有何评论？

答：中方注意到相关情况。近来，中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对光刻机的管制范围，中方对此表示不满。近年来，美国为维护自身全球霸权，不断泛化国家安全概念，胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施，严重威胁全球半导体产业链供应链稳定，严重损害相关国家和企业正当权益，中方对此坚决反对。

荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，尊重市场原则和契约精神，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展，不滥用出口管制措施，切实维护中荷企业和双方共同利益，维护全球半导体产业链供应链稳定。