中国自研光刻机取得突破，核心技术指标被公开

中国在半导体领域砸下5212亿的巨额资金后，国产光刻机终于取得重大突破。与此同时，英伟达在华业务遭受重创，美国却呼吁中方保持克制。

正如外界所看到的那样，进入21世纪之后，全球各国在高新技术领域的博弈强度不断升级。从特朗普政府时期开始，美国就针对中国出台了一系列的政策法案，试图打垮中国的半导体产业，从而巩固在该领域的主导地位。因此，现阶段半导体领域也成为了中美两国博弈较量的主战场。日前，有业内人士透露，美国半导体巨头英伟达公司从8月份开始就不再接受任何中国高新技术企业所发出H20芯片的订单，虽然英伟达方面还在争取可以继续对华供应这款芯片，但是H20芯片在华停售似乎已经成为了一个既定事实。不出意外的话，这款专门针对中国市场研制的芯片将很快从市场消失，届时英伟达在华业务也将遭受巨大的冲击，经济损失或超过120亿美元。

说实话，美国政府迫使英伟达放弃中国市场其实也是一件预料之中的事情。在拜登政府上台之后，美国对华的打压和遏制力度达到了一个新的高度，不仅禁止美国企业向中国提供任何先进技术和相关的服务，并且还严令要求不允许对华出口任何高性能的半导体产品，包括芯片和显卡等，简而言之一句话，拜登政府这次不但准备打垮中国高新技术企业，而且还打算一次性摧毁中国的半导体产业，让中国永远对美国失去“威胁和挑战的能力”。但是从目前情况来看的话，美国的遏制计划似乎要落空了。为了确保本国半导体产业的稳定发展以及维护自身的战略安全，中国大陆今年上半年在芯片制造工具方面的支出达到创纪录的250亿美元，约合1772亿人民币。5月，国家集成电路产业投资基金三期股份有限公司成立，注册资本高达3440亿元人民币。意味着今年中国已经在相关领域投资了5212亿人民币的资金，用于推动本国高新技术产业的发展。而随着技术的进步以及大量资金的注入，中国半导体产业呈现飞速发展的势头，不仅产能得到了明显的提升，而且相关核心技术也实现了关键性突破。

据悉，中国工信部近期在官网上发布了了一份重大技术装备推广应用指导目录，其中有一项名为氟化氩光刻机的核心技术指标引发了外界的关注和讨论。有一些专家认为，这一情况的出现基本上就意味着中国在光刻机领域取得了一个重大突破，这不仅是零到一的飞跃，同时也将会为一到二的进步提供一个关键平台和基础。毫不夸张地讲，新型国产光刻机的出现表明接下来中国有能力独立研发和制造出一款高性能的半导体产品，降低对美西方国家半导体产品的依赖，增强中国在半导体供应链上的话语权和影响力。而在得知中国光刻机取得突破之后，荷兰就彻底坐不住了，第一时间喊话美国，要求重新恢复阿斯麦对华自由展开业务。因为阿斯麦公司生产的光刻机有很大一部分要出口到中国市场，这为阿斯麦公司带来了丰厚的营业收入。

但是因为美国的一纸禁令，阿斯麦失去了中国市场，所带来的结果就是营业收入持续下滑。而且随着中国国产光刻机的出现，未来阿斯麦的生产运营必将会受到极大的冲击，这个是荷兰所不愿意看到的结果。因此，尽早恢复对华出口光刻机设备，也是阿斯麦公司唯一的自救方法。而根据半导体行业协会此前发布的报告显示，在2025年全球半导体销售额将超过6000亿美元，预计到2030年的时候，这一数值会突破1万亿美元的标准，这就意味着作为全球最大的半导体生产和消费市场，中国将成为全球半导体巨头竞争的目标。也难怪美财长耶伦会在美国发动制裁之后呼吁中方保持克制，可能她也不想中国彻底对美国合作大门。但耶伦应该明白，如今合作大门正在被美国关上，所以美国真想中美合作关系得到发展的话，诚意和态度一样都不能少。