IF=14.4！大连化物所「国家杰青」范峰滔，最新JACS！

研究概述

绝缘支撑在光催化中的作用尚未被充分理解。

2025年4月23日，美国纽约市立大学皇后学院Michael V. Mirkin、中国科学院大连化学物理研究所范峰滔在国际知名期刊Journal of the American Chemical Society发表题为《Photoelectrochemical Imaging of Charge Separation between MoS2Triangles and Insulating SiO2Support》的研究论文。

利用高分辨率光扫描电化学显微镜（photo-SECM），作者观察到附着在二氧化硅基底上的几层厚的二硫化钼（MoS2）三角形中存在明显的空间电荷分离。

空间分辨表面光电压（SPV）测量结果表明，在约1.7 kV/cm的内建电场驱动下，光生空穴从MoS2迁移到SiO2表面，横向移动距离超过2 μm。

在较厚和不太均匀的薄片中，电荷分离主要是由MoS2内部的驱动力造成的，二氧化硅的作用并不明显。

这些发现强调了绝缘体-半导体相互作用对有效电荷分离的重要性，为优化光催化系统提出了新的策略。

图文解读

图1：MoS2三角形的光扫描电化学显微镜图像

图2：单层和双层MoS2三角形的光学与电化学性能

图3：十层MoS2三角形的电化学与形貌

文献信息

Photoelectrochemical Imaging of Charge Separation between MoS2Triangles and Insulating SiO2Support, J.Am. Chem. Soc., 2025. https://doi.org/10.1021/jacs.5c02136

500+博士团队护航，助力50000+研究在Nature&Science正刊及子刊、Angew、AFM、JACS等顶级期刊发表！