光学玻璃在精密加工过程中,表面常残留极细微的研磨粉末,这类污垢若未彻底清除,不仅影响透光性,还可能损伤后续镀膜工艺。喷淋清洗通过高压水流冲击可快速去除大颗粒污染物,但对于粒径细小、表面吸附力强的研磨残留物,往往束手无策;另一方面,传统清洗液在高压喷射中易产生大量泡沫,泡沫层不仅削弱水流冲击力,还会在设备管路内滞留,导致泵体空转、清洗效率骤降。
ZX-3无泡清洗剂针对此类高精度清洗场景研发,其核心优势在于平衡了清洁力与工艺适配性。在高压喷淋过程中,ZX-3通过独特的分子结构设计,完全规避泡沫生成,确保水流动能充分传递至玻璃表面,为微粒剥离提供持续驱动力。同时,ZX-3分子能快速渗透至研磨粉末与玻璃的界面层,通过弱化微粒间的吸附力力作用,逐步瓦解污染物与基底的结合状态,使顽固颗粒逐渐剥离。脱离后的污染物被清洗剂包裹分散,随水流定向排出,既避免了颗粒二次附着,也保护了光学玻璃表面的平整度。
相较于传统清洗方案,ZX-3在实现深度清洁的同时,显著提升了工艺兼容性。其无泡特性可维持设备长期稳定运行,而精准的污染物剥离机制则确保光学元件在清洗后无需二次返工,为精密镀膜工艺奠定了高洁净度的基底条件。
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