5月20日线下报名｜大模型技术与应用workshop-端侧应用的机会与挑战

始智AI wisemodel.cn开源社区

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随着大模型（LLM）技术的爆发式发展，端侧大模型及应用已逐步成为技术革新的关键战场之一。端侧应用在隐私保护、低延迟、离线可用性等方面具备独特优势，AI手机、AIPC、智能汽车等终端设备也在积极升级换代，发应对道端侧算力限制、功耗优化、模型轻量化等挑战。

本次workshop，我们聚集端侧模型和应用的发展及落地实践，邀请行业专家、技术先锋与实战派从业者，共同探讨端侧大模型应用的机遇与挑战。欢迎端侧领域相关的朋友报名参与。

▍话题亮点

1. 目前AI手机、AIPC、AI眼镜、AI玩具、智能汽车等各类AI硬件的技术进展如何？产品化程度与量产能力达到了什么水平？在交互设计上有哪些创新与突破？当前发展面临的主要瓶颈又是什么？

2. 端侧模型和应用部署涉及的框架、基础设施、调度系统等infra软件，在云边协同等方面的适配情况与性能表现如何？存在哪些挑战与优化空间？

3. 端侧大模型目前的性能表现怎样？未来的发展趋势如何？量化、压缩、蒸馏等新技术在端侧大模型中的应用趋势是怎样的？如何在保障模型精度的同时，提升运行效率，实现两者的有效权衡？

4. 端侧应用在各领域的实际需求状况如何？落地应用取得了哪些成果？目前采用的商业模式是怎样的？收益情况又如何 ？

▍活动详情

活动时间：2025年5月20日14:00 - 17:00（13:30开始签到）

活动地点：北京海淀区清华科技园（具体地址后续通知）

活动形式：线下研讨会，含主题报告、现场交流讨论、总结互动环节。

▍报名方式

欢迎对端侧方向感兴趣的朋友报名！也请大家转发推荐给身边同学朋友，一起交流学习！