华力集成申请优化金属层图形的OPC修正方法专利，增加光强不足的金属层图形特别是梳状图形的光强

国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“优化金属层图形的OPC修正方法”的专利，公开号CN120595531A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本发明公开了一种优化金属层图形的OPC修正方法，包括：步骤一、获取金属层图形中具有光强不足问题的第一图形。步骤二、对第一图形中各边进行筛选以得到具有光强不足问题的第一边。步骤三、对第一边上的修正点的个数和位置进行调整，且所设置的各修正点保证在生成掩模板以及进行模型拟合时，能使第一图形的宽度得到撑大以保证第一图形的光强增加。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2082次，专利信息2411条，此外企业还拥有行政许可345个。

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来源：市场资讯