国家知识产权局信息显示,美光科技公司申请一项名为“改进的竖直3D存储器装置及存取方法”的专利,公开号CN120603255A,申请日期为2020年05月。
专利摘要显示,本申请案涉及一种改进的竖直3D存储器装置及存取方法。本公开提供一种存储器装置及其存取/取消选择方法。所述存储器装置包括:存储器层,其包含形成于其中的存储器单元的竖直三维(3D)存储器阵列,其中存储器单元经由彼此正交的字线及数字线被存取,且所述数字线呈竖直延伸的导电支柱的形式;支柱选择层,其形成于所述存储器层下方,且其中形成有用于存取存储器单元的薄膜晶体管(TFT);及外围电路层,其形成于所述支柱选择层下方,且具有用于字线及位线的感测放大器及解码电路系统,其中针对每一支柱配置TFT。
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