久之洋申请高透过深截止的中红外负滤光片及其制备方法专利，实现中红外波段3.7‑4.0μm和4.5‑4.8μm的高透过、4.1‑4.4μm的高截止性能

国家知识产权局信息显示，湖北久之洋红外系统股份有限公司申请一项名为“一种高透过深截止的中红外负滤光片及其制备方法”的专利，公开号CN120595414A，申请日期为2025年06月。

专利摘要显示，本发明提供一种高透过深截止的中红外负滤光片及其制备方法，所述中红外负滤光片包括基底，并且在基底两侧表面分别设有负滤光膜系和增透膜系；所述负滤光膜系为SiO膜层与Ge膜层交替层叠得到的非周期Ge/SiO多层膜，多层膜层数共计31层；所述增透膜系为SiO膜层与Ge膜层交替层叠得到的非周期Ge/SiO多层膜，多层膜层数共计5层。本发明的中红外负滤光片实现了中红外波段3.7‑4.0μm和4.5‑4.8μm的高透过、4.1‑4.4μm的高截止性能，具有通带透过率高、截止深度高、膜系结构简单、稳定性高等优点，可广泛应用于中红外负滤光片设计和中红外探测领域。

天眼查资料显示，湖北久之洋红外系统股份有限公司，成立于2001年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本18000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北久之洋红外系统股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目3924次，财产线索方面有商标信息13条，专利信息371条，此外企业还拥有行政许可5个。

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来源：市场资讯