烽火锐拓申请提高OVD沉积效率喷灯专利，解决沉积效率低的问题

国家知识产权局信息显示，武汉烽火锐拓科技有限公司申请一项名为“一种提高OVD沉积效率的喷灯”的专利，公开号CN120590049A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本申请涉及一种提高OVD沉积效率的喷灯，其包括灯体，所述灯体上设置有中心供料孔，以及环绕在所述中心供料孔周向且沿所述中心供料孔径向由内到外依次分布的第一氧气气孔层和第一氢气气孔层；所述第一氧气气孔层和第一氢气气孔层均包括导流件以及沿所述中心供料孔径向由内到外依次设置的第一气孔环圈和第二气孔环圈；所述导流件被配置为：对进入第一气孔环圈和第二气孔环圈内的气体流量进行分配，以随气体流量增大而增大气体进入第二气孔环圈内的流量比例。

天眼查资料显示，武汉烽火锐拓科技有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本70500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉烽火锐拓科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目97次，专利信息61条，此外企业还拥有行政许可51个。

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来源：市场资讯