中芯国际申请标准单元版图结构等相关专利，提高标准单元的速度

国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请一项名为“标准单元版图结构、标准单元库及版图布线方法”的专利，公开号CN120603325A，申请日期为2024年02月。

专利摘要显示，一种标准单元版图结构、标准单元库及版图布线方法。所述标准单元版图结构包括：第一MOS管版图结构；以及第二MOS管版图结构；其中，所述第一MOS管版图结构与所述第二MOS管版图结构具有第一公共栅极区；所述第一公共栅极区对应于所述第一MOS管版图结构的位置具有第一接触孔；所述第一公共栅极区对应于所述第二MOS管版图结构的位置具有第二接触孔；所述第一接触孔通过第三金属层与所述第二接触孔连接，以基于所述第三金属层控制第一MOS管及第二MOS管。

天眼查资料显示，中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集成电路制造(上海)有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目127次，财产线索方面有商标信息150条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可446个。

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来源：市场资讯