大族半导体申请一种用于光刻机曝光焦距一致性校验方法等专利，有效提升光刻机的曝光焦距一致性校验的效率及精度
国家知识产权局信息显示，深圳市大族半导体装备科技有限公司申请一项名为“一种校验方法、校验组件及光刻机”的专利，公开号CN 120595542 A，申请日期为2025年06月。
专利摘要显示，本申请提供一种校验方法、校验组件及光刻机，校验方法用于光刻机的曝光焦距一致性校验，校验方法包括：获取掩膜板图案的若干个曝光区域在曝光焦面上的静态图像；从若干个静态图像中选取清晰度最高的静态图像作为第一参考图像，并以第一参考图像对应的曝光区域作为参考区域，以清晰度小于第一参考图像的静态图像对应的曝光区域作为待调节区域；基于参考区域对待调节区域进行焦距调节。
天眼查资料显示，深圳市大族半导体装备科技有限公司，成立于2018年，位于深圳市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本12000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市大族半导体装备科技有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目217次，专利信息831条，此外企业还拥有行政许可18个。
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来源：市场资讯
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