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ASML荷兰申请光刻设备维护动作方法专利,减小性能影响度量不可校正部分

国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“在光刻设备上执行维护动作的方法”的专利,公开号CN120604172A,申请日期为2024年01月。

专利摘要显示,公开了一种在维护动作之后执行的机器维护方法,在所述维护动作中,旧机器部件已经由替换机器部件替换。所述方法包括确定性能影响度量,所述性能影响度量描述由用所述替换机器部件替换所述旧机器部件引起的对机器性能的影响;以及降级所述替换部件,使得所述性能影响度量的至少不可校正部分被减小和/或最小化,所述不可校正部分是无法由所述机器的校正机构和/或使用所述机器执行的过程校正的部分。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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  • 原文链接https://page.om.qq.com/page/O1lJW12c7jm1sqy7jAu_9LPg0
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