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旺宏电子申请半导体结构专利,可应用于三维AND闪存元件

国家知识产权局信息显示,旺宏电子股份有限公司申请一项名为“半导体结构”的专利,公开号CN120613312A,申请日期为2024年03月。

专利摘要显示,本公开提供一种半导体结构,可应用于三维AND闪存元件。半导体结构包括基底、介电结构、第一密封环结构与第一密封通孔。基底包括元件区。介电结构位于基底上。第一密封环结构位于介电结构中。第一密封环结构围绕元件区。第一密封通孔位于介电结构中。第一密封通孔围绕元件区。第一密封通孔位于第一密封环结构上。第一密封通孔直接接触第一密封环结构。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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