绍兴森博机械科技申请CMP设备用抛光垫修整器及其制备方法专利，工艺成熟稳定

国家知识产权局信息显示，绍兴森博机械科技有限公司申请一项名为“一种CMP设备用抛光垫修整器及其制备方法”的专利，公开号CN 120606342 A，申请日期为2025年07月。

专利摘要显示，本发明公开了一种CMP设备用抛光垫修整器及其制备方法，包括修整器本体，所述修整器本体包括基体层，基体层的表面设有粘附层，粘附层的表面设有固定层，固定层的表面设有防腐层，基体层的表面设有磨料层，磨料层嵌入粘附层、固定层和防腐层中，其顶部伸出防腐层的表面。它无需粘结剂等胶水，其可以将磨料层固定牢固，通过丝网印刷工艺来转移磨料层，具有工艺成熟稳定，植入率高，工艺流程简单，转移速率快的优点。

天眼查资料显示，绍兴森博机械科技有限公司，成立于2020年，位于绍兴市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本30万人民币。通过天眼查大数据分析，绍兴森博机械科技有限公司专利信息1条。

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来源：市场资讯