迪道微电子申请双层复合结构拒水保护膜及其制备方法专利，实现高渗透性与结构刚性统一

国家知识产权局信息显示，深圳迪道微电子科技有限公司申请一项名为“一种双层复合结构的拒水保护膜及其制备方法”的专利，公开号CN 120607806 A，申请日期为2025年08月。

专利摘要显示，本发明公开了一种双层复合结构的拒水保护膜及其制备方法，本发明包含支撑层和拒水层，所述支撑层创新性地采用双组分高、低聚合度复配体系，通过短链与长链以不同的质量比协同构建。其中短链组分凭借低黏度特性可实现高深宽比的微细电路间隙的高效填充，长链组分则赋予材料优异的机械性能，实现高渗透性与结构刚性的统一。所述拒水层采用含氟化合物与有机硅化合物的分子级杂化体系，通过含氟链段实现超低表面能，接触角＞110°，有机硅链段则增强膜层柔韧性。该层与底层通过界面化学键合形成梯度过渡结构，在保持超疏水特性的同时确保层间结合强度。

天眼查资料显示，深圳迪道微电子科技有限公司，成立于2020年，位于深圳市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本3288.4147万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳迪道微电子科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息22条，此外企业还拥有行政许可14个。

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来源：市场资讯