奥尼汽电申请镜头用自修复涂层及其制备方法专利，修复表面划痕

国家知识产权局信息显示，深圳奥尼汽电技术有限公司申请一项名为“一种镜头用自修复涂层及其制备方法”的专利，公开号CN 120607846 A，申请日期为2025年07月。

专利摘要显示，本发明公开了一种镜头用自修复涂层及其制备方法，涉及全景相机和车载摄像设备技术领域，通过优化成分与工艺，制备得到可自修复、高透光、耐磨的镜头自修复材料。单体在引发剂作用下发生自由基共聚，改性丙烯酸羟乙酯通过氢键引入动态交联点，提高涂层自修复性能，修复表面划痕；苯并三唑类单体保护涂层免受光降解，改性SiO2和改性Al2O3可以提高硬度、耐磨性，复合交联剂形成双重交联网络，在催化剂的作用下，发生二硫键断裂与重组和硅氧烷水解缩合，提升涂层自修复能力，增强耐湿热老化性、耐水性。该涂层具有优异的耐磨、透光和耐久性能，可以保护镜头，抑制划痕，本发明的自修复涂层特别适用于车载摄像设备、全景相机等领域。

天眼查资料显示，深圳奥尼汽电技术有限公司，成立于2023年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳奥尼汽电技术有限公司专利信息4条，此外企业还拥有行政许可1个。

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来源：市场资讯