“晶片战争”中国东方不败，让世界刮目相看！

台最新纽约速报：「晶片战争」中国东方不败，让世界"刮目相看"！DUV顶级尖端技术大突破，落后10年「迎头赶上」。据美国《金融时报》报导，中国己成功测试一款搭载浸润式系统的顶级前端先进制作设备，该设备的大突破，使落后10年的DUV科技迎头赶上，该设备具备制造14奈米及7奈米制造晶片能力，技木上与荷兰半导体设备巨头，ASML的浸润式DUV光刻机类似。知情人士透露，目前正在测试由上海新创公司宇量升生产的28奈米深紫光(DUV)曝光机，并利用「多重图形技术」生产7奈米晶片。尽管美国一直升级打压中国晶片技术制裁，这一重大突破，体现中国半导体产业正展现出强劲的韧性。美国2年多前开始对中国实施技术封锁，限制了EUV光刻机的出口，2024年更进一步扩大制裁范围，将多款先进的浸润式DUV光刻机也纳入禁运清单，这使得中国市埸的合作受到严重限制。这次的外部压力并未击跨中国半导体产业，反而成为其加速自主化进程的催化剂。DUV被誉为人类迄今最复杂的工业设备，耗时30多年并集结全球顶尖供应商才能完成，尽管如此，美国的制裁却意外地推动了中国半导体产业的团结与协作。(中华卫视驻纽约记者罗建斌报导)