ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达奥尔巴尼纳米技术综合体

IT之家 7 月 21 日消息，据美国纽约州州长办公室当地时间今日向路透社提供的信息，ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达该州境内的奥尔巴尼纳米技术综合体 (Albany NanoTech Complex)。

IT之家注意到，根据综合体监管方 NY Creates（纽约研究、经济促进、技术、工程和科学中心）在社交媒体提供的照片，这一半导体制造关键设备已于当地时间昨日踏上了前往综合体的最后一程。

▲ 图源：NY Creates

NY Creates 总裁兼首席执行官 Dave Anderson 表示，奥尔巴尼纳米技术综合体是北美唯一的同类设施，其规模和重点与比利时 imec 类似。

他称 High NA EUV 光刻机“确实会改变我们未来的业务范围以及美国的研发活动”，“我们实际上正处于下一代技术发展的中心”。