ASML断供！我们为何不能自行研究光刻机？答案全在这里！

ASML断供！我们为何不能自行研究光刻机？答案全在这里！

据权威媒体报道，全球光刻机霸主阿斯麦（ASML）终止和中芯国际的合作，很多ASML的员工也表示，此举最大的因素就是防止刺激到美国。其实作为一个企业ASML一直想为中国供货，前几日，ASML已经公开表示，先进的光刻机已经准备好随时发货，就等荷兰的出口许可，而荷兰却不能如愿以偿地履行自己的承诺。

据数据统计，光刻机霸主阿斯麦所有的光刻机订单总量，美国占据17%，但不是最大的客户，阿斯麦全球最大的客户就是中国，中国销量占据19%，阿斯麦断供全球最大的客户，之后将损失了接近于20%的订单，很多网友就表示了，荷兰的技术虽然超群，但......

关于阿斯麦，他是世界上最强大的光刻机生产商，没有之一，阿斯麦占领光刻机市场80%的份额，尤其在EVU领域，是处于垄断的地位，其实阿斯麦的前身是飞利浦，由于精准的判断出半导体在未来的重要性，很久之前就从飞利浦独立出来，潜心研究光刻机技术，以至于光刻机所有的标准都是按照阿斯麦的技术标准，产业链的生产也以阿斯麦为基准，虽然阿斯麦只做一个零部件，但是却把这个零部件做到了最好。不仅阿斯麦的芯片光刻机全球最好，相机传感器的光刻机也是最好。

而这次阿斯麦拒绝向中芯国际供货，很多网友表示，难道我们的7nm工艺就凉凉了？其实中芯国际有一台7nm工艺的光刻机，但是由于阿斯麦只提供基本说明和功能，很多周边技术都采用了美国的科技，设备的很多功能都藏着掖着，有些功能还没有摸透，也不能投入量产。

很多人就会问，我们那么有钱，为什么不能自行研发光刻机呢？这里有三个原因。

1、光刻机是光学和机械一体化的设备，全部研发流程没有任何的弯道可以超车，在精度方面只有一步一步的提升，没有10nm精度的基础，就没有办法研发9nm的设备。而阿斯麦能够造出7nm工艺的EVU光刻机，甚至还有5nm工艺的光刻机，可以想象的出来，阿斯麦完全仰仗着自己从飞利浦独立出来积攒了几十年的技术。

2、我们如果自行研发光刻机， 虽然说钱不是问题，但是从技术上来讲，我们也要和阿斯麦那样一步一个脚印，脚踏实地的一步一步来，但是过程要比阿斯麦还要艰难数十倍，因为关系到技术专利的问题，阿斯麦在研发的过程中，把能注册的专利都注册了，如果我们研发， 需要绕开阿斯麦的专利，重新走一条新路。华为5G技术注定领先全球，也是因为在5G领域，华为的专利最多，竞争对手想要超过华为，就要绕开华为的5G专利，而结果是怎么都绕不开的，所以自行研发光刻机技术难度可想而知。

3、如果想要研发，必须官方出面带头，因为所有的企业基本上都不想斥巨资在研发光刻机上面，阿斯麦的光刻机一台可以卖到5亿欧元，折合人民币38亿人民币，研发成本就更高了，更何况要历时数十年才能达到现在7nm的精度，很多企业没有这个勇气。

所以，我们想要弯道超车，难度的确有点高，但是中国已经在行动了， 据悉，上海已经明确要在光刻机的生产与研发上做为突破，技术水平差距并不可怕，可怕的是没有付诸行动，相信，在中国大量科学家的努力之下，我们的光刻机定会突破限制，突出重围，弯道超车不是梦！