中国光刻机技术和ASML的差距有多大？至少10年以上

众所周知，这几天大家又为中芯国际以及中国高端芯片制造担忧起来了，原因是中国芯国际向ASML采购的一台极紫外光刻机，可能生变了。这台极紫外光刻机是中国唯一一台极紫外光刻机，目前只有ASML能够生产。

国内光刻机性能与国外ASML等巨头差距明显，可以说光刻机性能差距严重制约了中国半导体行业发展，那么国产光刻机与国外ASML等巨头生产的光刻机差距有多大呢？

在2019中国集成电路设计大会上，针对这个问题，中科院院士刘明坦言，目前国内光刻技术与国外差距大约15年至20年。刘明院士表示，目前光刻技术是整个集成电路中我们与国外差距最大的部分。

荷兰ASML公司绝对是目前全球数一的企业。其提供的光刻机已经可以完成7nm及更精密工艺的制造工作。而目前国内光刻机还处于90nm工艺水平，即使可以实现28nm工艺，也是借助国外光刻机实现的。

近两年国产力量崛起，在部分领域已经实现赶超。当然在集成电路部分，特别是生产环节，我国依旧落后。光刻机作为集成电路中的重要环节，将会成为未来国内重点攻克部分。