国产半导体关键材料获得突破，而光刻机也安装完毕

半导体产业

国产半导体产业发展落后，尤其是在国产高端芯片制造方面，存在着很大的差距，而这里面的落后，并不是单单因为我们在光刻机的研制制造方面存在短板，而在整个半导体产业链中，存在多个短板。

这里，科技风景线小编要给大家说的这个短板则是光刻胶，或许我们已经有了相关的突破，但是，我们必须正视现在的差距，尤其是在量产方面，差距需要弥补。当然了，前提还是需要在研发上获得突破，而就在近日，我们的一家企业在光刻胶方面，有了很不错的进展。

半导体产业

本周一，上海新阳宣布消息称，订购的与ARF193nm光刻胶相配套的光刻机将在本月底实现交货，而与KRF248nm光刻胶相配套的光刻机则已经安装完毕，目前已经开始调试工作。

据悉，现在上海新阳的ARF193nm光刻胶的关键技术已经获得了重大突破，已经从研发阶段，开始向量产阶段转移，而ARF193nm光刻胶的突破，意味着国内芯片制造方面，在90nm铜互联制程后的关键光刻胶产品将填补市场空白，也意味着我们距离掌握自主可控的芯片制造关键材料更近了一步。

半导体产业

不过，这里面需要给大家说清楚的是，也是让不少网友误解的地方，上海新阳这次已经安装完毕的光刻机并不是我们国产的，这台光刻机的供应商还是大家所熟知的荷兰光刻巨头ASML，而上海新阳所采购的这台设备还是二手光刻机，为ASML1400 型！

半导体产业

其实大家也没有必要在这方面有所计较，毕竟，上海新阳并不是芯片制造厂商，而是半导体产业材料的供应方，为了在光刻胶方面获得突破，自然需要光刻机的相关配套设备，用来进行相关产品的测试工作。

半导体产业

实际上，这也可以从侧面反映出来，我们在芯片制造环节的隐患，不但芯片制造需要光刻机，即使是芯片制造相关材料上也是需要光刻机的，这就需要我们在国产光刻机上继续努力了，我们落后很多，差距也非常大，而作为必须突破的短板，国产光刻机研制还需要更多投入，而科技风景线小编也坚信我们一定会获得突破的，为我们的科研人员加油！